[发明专利]离子阱质谱分析装置及使用该装置的质谱分析方法有效
申请号: | 201680079369.3 | 申请日: | 2016-01-18 |
公开(公告)号: | CN108474762B | 公开(公告)日: | 2021-03-26 |
发明(设计)人: | 关谷祯规;高桥秀典 | 申请(专利权)人: | 株式会社岛津制作所 |
主分类号: | G01N27/62 | 分类号: | G01N27/62;H01J49/42 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 离子 谱分析 装置 使用 方法 | ||
1.一种质谱分析方法,使用了离子阱质谱分析装置,所述离子阱质谱分析装置将源自试样的离子捕捉到由多个电极形成的离子阱的内部空间中,通过规定的离子解离方法使该离子解离,将由此得到的产物离子从所述离子阱排出并进行检测,
所述质谱分析方法的特征在于,具有如下的步骤:
a)离子筛选步骤,将被捕捉到所述离子阱中的离子之中除具有特定质荷比的目标离子之外的离子从该离子阱排出;
b)离子解离/排出步骤,重复多次进行如下的离子解离操作和离子排出操作:通过规定的解离方法使通过所述离子筛选步骤而残留于所述离子阱中的所述目标离子解离的离子解离操作、和在该解离操作后,在将被捕捉到所述离子阱中的离子之中质荷比小于所述目标离子的质荷比的离子沿质荷比变高的方向从低质荷比侧起或沿其反方向进行质量扫描的同时将所述离子排出的离子排出操作;以及,
c)质谱制作步骤,根据对在所述离子解离/排出步骤中进行多次离子排出操作时从所述离子阱排出的离子进行检测所得到的结果,制作质谱。
2.根据权利要求1所述的质谱分析方法,其特征在于,
所述离子解离/排出步骤中,进行如下的离子排出操作:在将被捕捉到所述离子阱中的离子从低质荷比侧起沿质荷比变高的方向依次进行质量扫描直至即将达到所述目标离子的质荷比为止的同时将所述离子排出的离子排出操作。
3.根据权利要求1或2所述的质谱分析方法,其特征在于,
所述离子解离方法包括氢自由基附着解离、电子转移解离以及电子捕获解离中的一者。
4.根据权利要求3所述的质谱分析方法,其特征在于,
在所述离子解离/排出步骤中重复进行的多次离子解离操作中,使用同一离子解离方法。
5.根据权利要求3所述的质谱分析方法,其特征在于,
在所述离子解离/排出步骤中重复进行的多次离子解离操作中,使用彼此不同的二个以上的离子解离方法。
6.一种离子阱质谱分析装置,其将源自试样的离子捕捉到由多个电极形成的离子阱的内部空间中,通过规定的离子解离方法使该离子解离,将由此得到的产物离子从所述离子阱排出并进行检测,
所述离子阱质谱分析装置的特征在于,具备:
a)离子筛选执行部,其以形成将被捕捉到所述离子阱中的离子之中除了具有特定质荷比的目标离子之外的离子从该离子阱排出的电场的方式,对构成该离子阱的至少一个电极施加规定的电压;
b)离子解离/排出执行部,其重复多次进行如下的离子解离操作和离子排出操作:通过规定的解离方法使通过基于所述离子筛选执行部的离子筛选操作而残留于所述离子阱中的所述目标离子解离的离子解离操作、和在该解离操作后,在将被捕捉到所述离子阱中的离子之中质荷比小于所述目标离子的质荷比的离子沿质荷比变高的方向从低质荷比侧起或沿其反方向进行质量扫描的同时将所述离子排出的方式对构成所述离子阱的至少一个电极施加规定的电压的离子排出操作;以及,
c)质谱制作部,其根据对在由所述离子解离/排出执行部进行多次离子排出操作时从所述离子阱排出的离子进行检测所得到的结果,制作质谱。
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