[发明专利]散射辐射的多重光谱的同时检测

权利要求书

1.一种装置，包括：

光源，其用于发射激发光束；

全息光学元件，其用于将所述激发光束转换成多个激发光束；

采样装置，其用于将所述多个激发光束作为投射点的二维图案而投射到所述装置外侧的表面上，以及用于响应于所述投射点的二维图案来收集由所述表面发射的散射辐射；以及

检测器，用于检测所述散射辐射中的频率偏移。

2.根据权利要求1所述的装置，其中所述全息光学元件包括：衍射掩模，其包括具有不同空间频率的多个衍射光栅的叠加。

3.根据权利要求1所述的装置，进一步包括：

定位在所述采样装置与所述检测器之间的衍射光栅，用于在所述散射辐射被传递到所述检测器之前对所述散射辐射进行色散。

4.根据权利要求1所述的装置，其中在所述装置外侧的表面包括：

表面增强的基板。

5.根据权利要求4所述的装置，其中所述表面增强的基板包括多个区域，以及所述基板的局部形貌跨越所述多个区域进行变化。

6.根据权利要求5所述的装置，其中所述局部形貌包括聚合物指状物的图案，以及利用金属纳米颗粒覆盖所述聚合物指状物中的至少一些。

7.根据权利要求6所述的装置，其中通过使所述聚合物指状物的空间布置跨越所述多个区域进行变化来造成所述局部形貌中的变化。

8.根据权利要求6所述的装置，其中通过使所述聚合物指状物之间的间隔跨越所述多个区域进行变化来造成所述局部形貌中的变化。

9.根据权利要求5所述的装置，其中所述采样装置被配置成布置所述投射点的二维图案，以使得投射点之一入射在所述多个区域中的每个区域上。

10.一种方法，包括：

提供激发光束；

将所述激发光束转换成多个激发光束；

将所述多个激发光束作为投射点的二维图案而投射到表面上；

响应于所述投射点的二维图案，收集由所述表面发射的散射辐射，其中所述散射辐射同时包括散射辐射的多重光谱；以及

将所述散射辐射传递到检测器。

11.根据权利要求10所述的方法，进一步包括：

提供表面增强的基板，要向所述表面增强的基板上投射所述投射点的二维图案，其中包含至少一种分子的样本被吸附到所述表面增强的基板上。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述提供包括：

在所述表面增强的基板中提供多个区域；以及

使所述基板的局部形貌跨越所述多个区域进行变化。

13.根据权利要求12所述的方法，其中所述局部形貌包括聚合物指状物的图案，以及利用金属纳米颗粒覆盖所述聚合物指状物中的至少一些。

14.根据权利要求13所述的方法，其中所述变化包括：

使所述聚合物指状物的空间布置跨越所述多个区域进行变化；或者

使所述聚合物指状物之间的间隔跨越所述多个区域进行变化。

15.根据权利要求12所述的方法，其中所述投射包括：

将所述投射点中的一个投射在所述多个区域中的每个区域上。