[发明专利]用于传输高强度光的光学设备的冷却器

权利要求书

1.一种用于光学设备的热环境控制的装置，所述光学设备能够传输大于的高功率通量，所述高功率通量足以用于从材料的粉末颗粒增材制造部件的目的，所述装置包括：

待被热管理的光学设备，

产生高功率光束的光源，所述高功率光束从所述光源被引导通过待被热管理的所述光学设备，

光学冷却系统，其操作地连接至所述光学设备，其中，所述光学冷却系统包括布置在所述光学设备的相对侧上的第一窗口和第二窗口，以在所述光学设备的相对侧上形成一对平行的流体流动通道，以使冷却流体流过所述流体流动通道，并且其中，所述冷却流体流到并且直接地同时接触所述光学设备的两个相对侧，并且其中，所述冷却流体对于通过所述冷却流体传输的所述高功率光束在很大程度上是透明的，并且其中，所述高功率光束在到达所述材料的粉末颗粒之前穿过所述第一窗口和所述第二窗口，穿过所述一对平行的流体流动通道，并且穿过所述光学设备。

2.根据权利要求1所述的用于光学设备的热环境控制的装置，其中，产生所述高功率光束的所述光源是产生具有一定能量的激光束的激光器，其中，该能量以热量的形式被传递到所述光学设备，并且其中，所述光学冷却系统的所述冷却流体从所述光学设备移除热量。

3.根据权利要求1所述的用于光学设备的热环境控制的装置，其中，产生所述高功率光束的所述光源是产生具有一定热量的激光束的二极管激光器，其中，该热量被传递到所述光学设备，并且其中，所述光学冷却系统的所述冷却流体从所述光学设备移除热量。

4.根据权利要求1所述的用于光学设备的热环境控制的装置，其中，所述光学设备是光学寻址光阀OALV，其包括：

对所述高功率光束透明的半导体材料，所述半导体材料能够被光学激发以引起半导体电导率的变化，

液晶层，其用于在所述高功率光束通过所述OALV传输时旋转所述高功率光束的偏振态，

对所述高功率光束透明的基板材料，

所述半导体的外部上以及在所述液晶与所述基板材料之间的光学透明导电涂层，以及

所述半导体材料的两侧以及所述基板材料的两侧的抗反射涂层。

5.根据权利要求4所述的用于光学设备的热环境控制的装置，其中，所述半导体材料对1053nm光是透明的。

6.根据权利要求4所述的用于光学设备的热环境控制的装置，其中，所述基板材料对1053nm光是透明的。

7.根据权利要求4所述的用于光学设备的热环境控制的装置，其中，所述液晶是扭曲向列E7。

8.根据权利要求4所述的用于光学设备的热环境控制的装置，其中所述透明导电涂层是铟锡氧化物。

9.根据权利要求1所述的用于光学设备的热环境控制的装置，其中，所述高功率光束由处于一种偏振态的光组成。

10.根据权利要求1所述的用于光学设备的热环境控制的装置，其中，所述光学设备是光学寻址光阀OALV，其包括：

第二光源，其用于投射调谐到所述OALV中的半导体的吸收带的波长的图案化光，以及

偏振镜，其能够分离由所述OALV的液晶部分中的高功率光束的偏振旋转引起的正交偏振态。

11.根据权利要求1所述的用于光学设备的热环境控制的装置，其中，所述光学冷却系统包括操作地连接至所述光学设备的壳体，并且所述冷却流体包含在所述壳体中。

12.根据权利要求1所述的用于光学设备的热环境控制的装置，其中，所述光学冷却系统包括：操作地连接至所述光学设备的壳体、在所述壳体中循环的所述冷却流体、以及操作地连接至所述冷却流体的热交换器。