[发明专利]光学读取器在审
申请号: | 201680080548.9 | 申请日: | 2016-01-29 |
公开(公告)号: | CN108604288A | 公开(公告)日: | 2018-09-28 |
发明(设计)人: | C·M·桑托里;J·W·斯塔西亚克;F·埃塔;A·罗加奇;M·亚马卡瓦;K·沃德 | 申请(专利权)人: | 惠普发展公司;有限责任合伙企业 |
主分类号: | G06K7/14 | 分类号: | G06K7/14;G06K7/10 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 周学斌;陈岚 |
地址: | 美国德*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学读取器 二维点阵 基板 发射光束 光束生成 纳米结构 点图案 生成器 感测 光源 检测 | ||
1.一种光学读取器,包括:
用以发射光束的光源;以及
点图案生成器,用以接收所述光束并且根据所述光束来生成二维点阵,要将所述二维点阵朝向具有纳米结构的基板引导,要对所述二维点阵进行感测来检测关注物质在所述基板上的存在或不存在。
2.根据权利要求1所述的光学读取器,其中所述点图案生成器是全息点图案生成器。
3.根据权利要求2所述的光学读取器,其中所述全息点图案生成器包括用以生成所述点阵的衍射光栅的叠加。
4.根据权利要求1所述的光学读取器,进一步包括:光分析器,用以访问与所述二维点阵中的相应点相关联的所测量的光谱数据,并且将所测量的光谱数据与参考光谱数据进行比较来检测所述关注物质的存在或不存在。
5.根据权利要求1所述的光学读取器,其中所述关注物质是第一关注物质,要将所述二维点阵朝向具有纳米结构的基板引导,以使得第二关注物质在所述基板上的存在或不存在能够被检测到。
6.根据权利要求5所述的光学读取器,进一步包括光分析器,用以访问与所述二维点阵中的相应点相关联的所测量的光谱数据,并且将所测量的光谱数据与参考光谱数据进行比较来检测所述第一关注物质和所述第二关注物质之一的存在或不存在。
7.根据权利要求1所述的光学读取器,进一步包括衍射光栅,用以接收来自所述基板的经反射的光阵列,所述经反射的光阵列相对于所述衍射光栅的角度为大约十五度,以使得在传感器处所接收到的并且与所述经反射的光阵列相关联的光带能够具有阈值间隔。
8.根据权利要求1所述的光学读取器,进一步包括致动器,用以调节透镜相对于所述基板的位置以使得所述二维点阵能够具有阈值强度。
9.根据权利要求1所述的光学读取器,进一步包括光分析器,用以访问所述二维点阵的所测量的光强度值,并且将所测量的光强度值与参考光强度值进行比较来确定所测量的光强度值是否在所述参考光强度值的阈值内。
10.根据权利要求9所述的光学读取器,其中所述光分析器要使致动器调节透镜相对于所述基板的位置以使得随后测量的光强度值能够在所述参考光强度值的阈值内。
11.一种方法,包括:
根据光束生成二维点阵;
将所述二维点阵朝向具有纳米结构的基板引导;以及
基于与所述二维点阵中的点相关联的光谱数据来确定关注物质在所述基板上的存在或不存在。
12.根据权利要求11所述的方法,其中确定所述关注物质在所述基板上的存在或不存在包括:将与所述基板上的第一位置相关联的光谱数据与参考光谱数据进行比较来确定所述关注物质在所述第一位置处的存在或不存在;将与所述基板上的第二位置相关联的光谱数据与参考光谱数据进行比较来确定所述关注物质在所述第二位置处的存在或不存在;以及将与所述基板上的第三位置相关联的光谱数据与参考光谱数据进行比较来确定所述关注物质在所述第三位置处的存在或不存在;所述第一位置、所述第二位置和所述第三位置中的一个与所述第一位置、所述第二位置和所述第三位置中的其他位置轴向偏移。
13.根据权利要求12所述的方法,进一步包括:调节透镜以使得所接收到的并且与所述光谱数据相关联的光的强度能够在参考光强度的阈值内。
14.一种光学读取器,包括:
用以发射光束的光源;
衍射幅度掩模,用以将所述光束转换成二维点阵,要将所述二维点阵朝向具有纳米结构的基板引导;以及
传感器,用以测量与所述二维点阵的经反射的点相关联的光谱数据,以使得能够检测关注物质在所述基板上的存在或不存在。
15.根据权利要求14所述的光学读取器,进一步包括光分析器,用以访问与所述二维点阵的经反射的点相关联的所测量的光谱数据,并且将所测量的光谱数据与参考光谱数据进行比较来检测所述关注物质之一的存在或不存在。
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