[发明专利]功能化表面及其制备

权利要求书

1.一种表面图案化方法，所述方法包括：

将第一组分子施加到结构的表面，其中所述第一组分子中的每一个与所述表面结合并且不含能够与核苷结合的反应性基团；

将电磁辐射(EMR)施加到所述表面的预定区域，其中所述EMR具有约100nm至约300nm的波长，其中所述EMR的施加导致在所述预定区域处去除所述第一组分子，从而限定用于寡核酸延伸的不同座位；以及

合成多个寡核酸，其中每个寡核酸从不同的座位延伸，并且其中当使用光学显微镜在白光照明之后通过计算从每个座位延伸的寡核酸的信号变化幅度除以总信号强度来测量时，所述不同的座位为至少约75％一致。

2.根据权利要求1所述的方法，其中在施加EMR之后，在所述表面的所述预定区域处去除超过约90％的所述第一组分子。

3.根据权利要求1所述的方法，其中在施加EMR之后，在所述表面的所述预定区域处去除约100％的所述第一组分子。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述预定区域具有约1um至约500um的宽度。

5.根据权利要求1所述的方法，其中所述预定区域具有约3um至约60um的宽度。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述预定区域具有至少3um的宽度。

7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述预定区域具有形状为圆形或矩形的周边。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一组分子包括氟硅烷。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一组分子包括全氟辛基三氯硅烷、(十三氟-1,1,2,2-四氢辛基)三氯硅烷或(十三氟-1,1,2,2-四氢辛基)三甲氧基硅烷。

10.根据权利要求1所述的方法，其进一步包括在施加所述EMR之后将第二组分子施加到所述表面，其中所述第二组分子中的每一个与所述表面的所述预定区域结合并且包含能够与核苷结合的反应性基团。

11.根据权利要求10所述的方法，其中所述第二组分子包括氨基硅烷。

12.根据权利要求10所述的方法，其中所述第二组分子包括N-(3-三乙氧基甲硅烷基丙基)-4-羟基丁酰胺(HAPS)、11-乙酰氧基十一烷基三乙氧基硅烷、正癸基三乙氧基硅烷、(3-氨丙基)三甲氧基硅烷、(3-氨丙基)三乙氧基硅烷、3-缩水甘油基氧基丙基三甲氧基硅烷(GOPS)或3-碘-丙基三甲氧基硅烷。

13.根据权利要求1所述的方法，其中所述寡核酸中的每一个具有约25个碱基至约2kb的长度。

14.根据权利要求13所述的方法，其中所述寡核酸中的每一个具有约25个碱基至约150个碱基的长度。

15.根据权利要求1所述的方法，其中当使用光学显微镜在白光照明之后通过计算从每个座位延伸的寡核酸的信号变化幅度除以总信号强度来测量时，从每个座位延伸的所述寡核酸为约80％一致。

16.根据权利要求1所述的方法，其中所述EMR具有约150nm至约200nm的波长。

17.根据权利要求1所述的方法，其中所述EMR具有约172nm的波长。

18.根据权利要求1所述的方法，其中所述表面是基本上平面的。

19.根据权利要求1所述的方法，其中所述表面包含显微结构。