[发明专利]基于氟代苯并恶二唑的供体-受体聚合物在电子学和光子学中的应用在审

专利信息
申请号: 201680080920.6 申请日: 2016-12-09
公开(公告)号: CN109071782A 公开(公告)日: 2018-12-21
发明(设计)人: 颜河;赵靖波 申请(专利权)人: 香港科技大学
主分类号: C08G61/12 分类号: C08G61/12;C08G61/00;C07D271/08;C07D271/02;C07D271/04;H01L51/42;H01L51/46;H01L51/30
代理公司: 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 代理人: 王刚;龚敏
地址: 中国香港*** 国省代码: 中国香港;81
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摘要:
搜索关键词: 聚合物 有机场效应晶体管 有机电子装置 受体聚合物 印刷油墨 有机电子 有机光伏 重复结构 恶二唑 氟代苯 富勒烯 光子学 小分子 电子学 供体 合成 应用
【权利要求书】:

1.一种包括一个或多个式I的重复单元的聚合物:

其中,X为H或F。

2.根据权利要求1所述的聚合物,其中,式I的单元是从式II和式III中选出的:

3.根据权利要求1所述的聚合物,其特征在于,所述聚合物包括一个或多个式IV的重复单元:

其中,R1,R2,R3和R4每次出现都独立地为C1-40烷基。

4.根据权利要求1所述的聚合物,其特征在于,所述聚合物包括一个或多个式V的重复单元:

其中,R1,R2,R3和R4每次出现都独立地为C1-40烷基。

5.根据权利要求1所述的聚合物,其特征在于,所述聚合物包括一个或多个式VI的重复单元:

6.根据权利要求1所述的聚合物,其特征在于,所述聚合物包括一个或多个式VII的重复单元:

7.根据权利要求1所述的聚合物,其特征在于,所述聚合物包括一个或多个式X的重复单元:

其中,R1,R2,R3,R4,R5和R6每次出现都独立地为C1-40烷基。

8.根据权利要求1所述的聚合物,其特征在于,所述聚合物包括一个或多个式XI的重复单元:

其中,R1,R2,R3,R4,R5和R6每次出现都独立地为C1-40烷基。

9.根据权利要求1所述的聚合物,其特征在于,所述聚合物包括一个或多个式XII的重复单元:

其中,R1,R2,R3和R4每次出现都独立地为C1-40烷基。

10.根据权利要求1所述的聚合物,其特征在于,所述聚合物包括一个或多个式XIII的重复单元:

其中,R1,R2,R3和R4每次出现都独立地为C1-40烷基。

11.根据权利要求1所述的聚合物,其特征在于,所述聚合物包括一个或多个重复单元,所述重复单元选自:

其中,R1,R2,R3和R4每次出现都独立地为C1-40烷基;

每个X独立地选自由O,S,Se和Te组成的组;并且

每个Y独立地选自由N,C-H和C-R5组成的组,其中,R5选自由C1-40直链和支链的烷基组成的组。

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