[发明专利]含有三嗪环的聚合物和包含该聚合物的膜形成用组合物

说明书

通过使用含有由下述式(1)表示的重复单元结构的含有三嗪环的聚合物，从而能够形成高折射率、耐候性优异的薄膜。{式中，R和R'相互独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、芳基或芳烷基，Ar表示选自由式(2)和(3)表示的组中的至少1种。[式中，W¹和W²相互独立地表示CR¹R²(R¹和R²相互独立地表示氢原子或可被卤素原子取代的碳数1～10的烷基(其中，它们可一起形成环))、C＝O、O、S、SO或SO₂]}

技术领域

本发明涉及含有三嗪环的聚合物和包含该聚合物的膜形成用组合物。

背景技术

目前为止，已发现在重复单元中含有三嗪环的超支化聚合物在聚合物单独的情况下能够实现高耐热性、高透明性、高折射率、高溶解性、低体积收缩率，适合作为制作电子器件、光学构件时的膜形成用材料(专利文献1)。

但是，对于具有由包含该聚合物的组合物制作的薄膜的光学材料而言，由于其骨架的不同，有时光(太阳光或紫外光)引起的薄膜的劣化成为问题，需要耐光性的提高。

作为提高包含含有三嗪环的超支化聚合物的薄膜的耐光性的手段，报道了添加紫外线吸收剂和光稳定剂的方法(专利文献2)，虽然采用该手法可在某种程度上防止劣化，但是发现折射率、透射率经时地变化，其效果不能说充分。

另外，报道了通过使用具有脂环结构的二胺原料，从而可对超支化聚合物自身赋予高耐光性(专利文献3)，但在使用了脂环结构的情况下，与折射率存在折衷的关系，在折射率方面需要改进，而且在对于超过200℃这样的高温的耐热黄变性方面也有改善的余地。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2010/128661号

专利文献2：国际公开第2015/093508号

专利文献3：日本特开2014-141596号公报

发明内容

发明要解决的课题

本发明鉴于上述实际情况而完成，目的在于提供能形成高折射率、耐候性优异的薄膜的含有三嗪环的聚合物和包含该聚合物的膜形成用组合物。

用于解决课题的手段

本发明人为了实现上述目的反复认真研究，结果发现具有来自2个或3个苯环经由非共轭的元素结合的二胺的骨架的含有三嗪环的聚合物给予高折射率且高耐光性的薄膜，并且发现由包含该聚合物和各种交联剂的组合物得到的固化膜在维持高折射率的同时耐光性且耐热黄变性优异，完成了本发明。

即，本发明提供：

1.含有三嗪环的聚合物，其特征在于，含有由下述式(1)表示的重复单元结构，

[化1]

{式中，R和R′相互独立地表示氢原子、烷基、烷氧基、芳基或芳烷基，Ar表示选自由式(2)和(3)表示的组中的至少1种。

[化2]

[式中，W¹和W²相互独立地表示CR¹R²(R¹和R²相互独立地表示氢原子或可被卤素原子取代的碳数1～10的烷基(不过，它们可一起形成环))、C＝O、O、S、SO或SO₂]