[发明专利]石英玻璃制备中硅含量的提升

权利要求书

1.一种制备石英玻璃体的方法，其包含以下方法步骤：

i.)提供二氧化硅颗粒，其中此提供包含以下方法步骤：

I.提供热解二氧化硅粉末；

II.加工所述二氧化硅粉末以获得二氧化硅颗粒，其中所述二氧化硅颗粒的粒径大于所述二氧化硅粉末；

ii.)从所述二氧化硅颗粒制造玻璃熔体；

iii.)从所述玻璃熔体的至少一部分制造石英玻璃体；

其中在所述方法步骤中的至少一个中，添加不同于二氧化硅的硅组分。

2.根据权利要求1所述的方法，其中在所述加工中形成具有细粒的二氧化硅颗粒，其中所述细粒具有球形形态，其中所述加工优选地包含喷雾造粒或辊式造粒。

3.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法，其中所述硅组分为硅、硅-氢化合物、硅-氧化合物或硅-氢-氧化合物。

4.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法，其中所述硅组分以粉末形式添加。

5.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法，其中所述硅组分的添加是在步骤II中进行。

6.根据权利要求1或3中任一权利要求所述的方法，其中所述硅组分以液体形式或以气体形式添加。

7.根据权利要求1到4或6中任一权利要求所述的方法，其中所述硅组分的添加是在步骤ii中进行。

8.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法，其中添加10到100,000ppm的量的硅组分，所述ppm以二氧化硅的总重量计。

9.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法，其中所述玻璃熔体在熔融坩埚中制造，其中所述熔融坩埚具有至少一个入口和至少一个出口。

10.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法，其中所述二氧化硅颗粒具有以下特征中的至少一种：

A)BET表面积在20到40m²/g范围内；

B)平均粒度在50到500μm范围内；

C)容积密度在0.5到1.2g/cm³范围内；

D)碳含量小于50ppm；

E)铝含量小于200ppb；

F)夯实密度在0.7到1.3g/cm³范围内；

G)孔隙体积在0.1到2.5mL/g范围内；

H)静止角在23到26°范围内；

I)粒度分布D₁₀在50到150μm范围内的；

J)粒度分布D₅₀在150到300μm范围内的；

K)粒度分布D₉₀在250到620μm范围内的，

其中所述wt％、ppm和ppb各自以所述二氧化硅颗粒的总重量计。

11.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法，其包含以下方法步骤：

II-1.提供液体；

II-2.将所述二氧化硅粉末和任选地所述硅组分与所述液体混合以获得浆液；

II-3.喷雾干燥所述浆液以获得所述二氧化硅颗粒。