[发明专利]降低二氧化硅颗粒的碳含量和石英玻璃体的制备在审

专利信息
申请号: 201680082012.0 申请日: 2016-12-16
公开(公告)号: CN108698886A 公开(公告)日: 2018-10-23
发明(设计)人: M·欧特;W·莱曼;M·胡乃曼;N·C·尼尔森;N·R·惠比;B·格罗曼;A-G·柯佩巴尼;T·凯瑟 申请(专利权)人: 贺利氏石英玻璃有限两合公司
主分类号: C03B20/00 分类号: C03B20/00;C03C3/06;C03B37/012;C03C1/02;C03B19/10;C03B17/04
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 刘媛媛
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 二氧化硅颗粒 石英玻璃体 二氧化硅粉末 玻璃熔体 加工 制备 成型体 反应物 照明体 光导 粒径 制造
【权利要求书】:

1.一种制备石英玻璃体的方法,其包含以下方法步骤:

i.)提供二氧化硅颗粒,其中所述提供包含以下步骤:

I.提供二氧化硅粉末;

II.加工所述二氧化硅粉末以获得二氧化硅颗粒,

其中所述二氧化硅颗粒的粒径大于所述二氧化硅粉末,

其中所述加工包含以下步骤:

1)加工所述二氧化硅粉末以获得包含至少两个粒子的二氧化硅颗粒I,

其中所述二氧化硅颗粒I具有第一碳含量wC(1)

2)用反应物处理所述二氧化硅颗粒I以获得具有另一碳含量wC(2)的二氧化硅颗粒II,

其中所述另一碳含量wC(2)小于所述第一碳含量wC(1)

在每种情况下都以涉及的所述二氧化硅颗粒的总重量计;

ii.)从所述二氧化硅颗粒II制造玻璃熔体;

iii.)从至少一部分所述玻璃熔体制造石英玻璃体。

2.根据权利要求1所述的方法,其中所述加工包含喷雾造粒。

3.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法,其中所述反应物选自由HCl、Cl2、F2、O2、O3、H2、C2F6、HClO4或其中两种或多于两种的组合组成的群组。

4.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法,其中所述至少两个二氧化硅颗粒粒子相对于彼此移动。

5.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法,其中步骤II.2)的特征在于以下特征中的至少一种:

N1)所述反应物含有HCl、Cl2或其组合;

N2)所述处理在旋转窑中进行;

N3)所述处理在600至900℃范围内的温度下进行;

N4)所述反应物形成逆向流;

N5)所述反应物具有50至2000L/h范围内的气体流;

N6)所述反应物具有0至小于50体积%的范围内的惰性气体体积组分。

6.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法,其中所述二氧化硅粉末具有以下特征中的至少一种:

a.BET表面积在20至60m2/g范围内;

b.容积密度在0.01至0.3g/cm3范围内;

c.碳含量小于50ppm;

d.氯含量小于200ppm;

e.铝含量小于200ppb;

f.不同于铝的金属的总含量小于1000ppb;

g.至少70重量%的所述粉末粒子具有10至100nm范围内的初始粒度;

h.夯实密度在0.001至0.3g/cm3范围内;

i.残余水分含量小于5重量%;

j.粒度分布D10在1至7μm范围内;

k.粒度分布D50在6至15μm范围内;

l.粒度分布D90在10至40μm范围内;

其中重量%、ppm及ppb各自以所述二氧化硅粉末的总重量计。

7.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法,其包含以下方法步骤:

iv.)从所述石英玻璃体制造具有至少一个开口的中空体。

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