[发明专利]石英玻璃体的制备与后处理

权利要求书

1.一种制备石英玻璃体的方法，其包含以下方法步骤：

i.)提供二氧化硅颗粒，

其中所述二氧化硅颗粒是从热解产生的二氧化硅粉末制备；

ii.)在熔融坩埚中从所述二氧化硅颗粒制造玻璃熔体；

其中所述熔融坩埚是配置在烘箱中；

其中所述熔融坩埚具有至少一个入口和一个出口；

iii.)从至少部分所述玻璃熔体制造石英玻璃体；

iv.)用至少一个选自由化学处理、热处理或机械处理组成的群组的工序处理所述石英玻璃体，以获得经处理的石英玻璃体。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述二氧化硅粉末的粒度分布D₅₀在6到15μm范围内。

3.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法，其中所述石英玻璃体经热处理，且其中所述热处理是选自由回火、压缩、充气、拉伸、焊接和其两种或多于两种的组合组成的群组的至少一个工序。

4.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法，其中所述石英玻璃体经化学处理，且其中所述化学处理包含至少一个选自由HF酸化和在无HF的浴液中进行超声波清洁组成的群组的工序。

5.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法，其中所述石英玻璃体经机械处理，且其中所述机械处理包含至少一个选自由研磨、钻削、珩磨、锯割、喷水切割、激光切割、喷砂粗糙化、碾磨和其两种或多于两种的组合组成的群组的工序。

6.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法，其中熔融能量是经由固体表面传输到所述二氧化硅颗粒。

7.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法，其中所述二氧化硅颗粒具有以下特征中的至少一种：

A)BET表面积在大于5到50m²/g范围内；

B)平均粒度在50到500μm范围内；

C)容积密度在0.5到1.2g/cm³范围内；

D)碳含量小于10ppm；

E)铝含量小于200ppb；

F)夯实密度在0.7到1.3g/cm³范围内；

G)孔隙体积在0.1到2.5mL/g范围内；

H)静止角在23到26°范围内；

I)粒度分布D₁₀在50到150μm范围内；

J)粒度分布D₅₀在150到300μm范围内；

K)粒度分布D₉₀在250到620μm范围内；

其中ppm和ppb在每种情况下均以所述二氧化硅颗粒的总重量计。

8.根据前述权利要求中任一权利要求所述的方法，其中步骤i.)包含以下步骤：

I.提供二氧化硅粉末；

II.加工所述二氧化硅粉末以得到二氧化硅颗粒，所述加工包含以下步骤：

II.1.提供液体；

II.2.将所述二氧化硅粉末与所述液体混合以获得浆液；

II.3.对所述浆液造粒。