[发明专利]用于过程窗口表征的设备和方法

权利要求书

1.一种对图案化过程的过程窗口进行表征的方法，所述方法包括：

获得用于图案的检查部位的集合，所述图案限定待利用图案化过程施加到衬底上的特征，所述检查部位的集合对应于所述特征的子集，所述特征的子集是根据相应的特征对所述图案化过程的一个或更多个过程特性的变化的灵敏度而从所述特征之中选择的；

依据所述图案化过程的变化的过程特性对一个或更多个衬底进行图案化；和

针对所述过程特性的变化中的每一个变化，在对应的检查部位处确定所述特征的子集中的至少一些是否在所述一个或更多个衬底上产生了不可接受的图案化结构。

2.如权利要求1所述的方法，其中，获得检查部位的集合包括：

由一台或更多台计算机，利用多种不同的模拟来模拟所述图案化过程，每一个模拟依据不同的过程特性；

针对不同的模拟中的每一个模拟，检测在相应的模拟结果中相应的模拟指示是不可接受的特征；和

基于检测到的特征来选择所述特征的子集。

3.如权利要求2所述的方法，其中，基于检测到的特征来选择所述特征的子集包括：

基于所述模拟结果中相应的特征对所述图案化过程的过程特性的变化的灵敏度来选择特征，或

基于针对相应的特征产生了不可接受的模拟结果的所述模拟中的过程特性的变化量来选择检测到的特征中的至少一些。

4.如权利要求2所述的方法，其中，模拟包括：

获得与所述图案对应的掩模版的设计布局；

获得光刻设备的参数；

选择用于模拟的所述图案化过程的过程特性的集合；和

由一台或更多台计算机，利用具有所获得的参数的光刻设备依据所选择的过程特性的集合来估计衬底上的图案化结构的尺寸。

5.如权利要求1所述的方法，包括：

基于所述特征的子集中的至少一些是否在所述一个或更多个衬底上产生了不可接受的图案化结构的确定情况，确定用于已变化的过程特性中的至少一些的过程窗口。

6.如权利要求1所述的方法，其中，确定所述特征的子集中的至少一些是否产生了不可接受的图案化结构包括：

利用电子束检查工具测量在相应的部位处特征的子集中的至少一些。

7.如权利要求1所述的方法，其中，针对不同的曝光场，基于与相应的曝光场对应的过程条件来指定不同的检查部位。

8.如权利要求1所述的方法，包括：

基于对一个或更多个过程特性的变化的灵敏度来对所述特征进行排序；和

基于所述排序来选择所述特征的子集。

9.如权利要求1所述的方法，包括：

基于所述特征中的至少一些对过程特性的变化的灵敏度来指定检查量度。

10.如权利要求1所述的方法，包括：

确定产生可接受的结果的过程特性的范围；和

通过感测图案化过程是否保持在所述过程特性的范围内来监测所述图案化过程。

11.一种对图案化过程的过程窗口进行表征的方法，包括：

获得用于图案的检查部位，所述图案限定待利用图案化过程施加到衬底上的特征，所述检查部位对应于所述图案的特征，所述特征是根据相应的特征对所述图案化过程的一个或更多个过程特性的变化的灵敏度而从所述特征之中选择的；

依据所述图案化过程的变化的过程特性对一个或更多个衬底进行图案化；和

针对所述过程特性的变化中的至少一些，在对应的检查部位处确定所述特征是否在所述一个或更多个衬底上产生了不可接受的图案化结构。