[发明专利]图案测量装置和图案测量方法

权利要求书

1.一种图案测量装置，其具备基于由带电粒子束装置得到的信号，测定在试样上形成的图案的尺寸的运算装置，其特征在于，

所述运算装置根据基于对所述试样扫描带电粒子束而得到的检测信号，求出凹状的图案的第1部分与位于与该第1部分不同高度的所述凹状的图案的第2部分之间的偏移以及所述凹状的图案的尺寸值，使用根据该检测信号求出的偏移以及表示预先求出的所述凹状的图案的尺寸与偏移之间的关系的关系信息，修正所述尺寸值，

所述尺寸值是所述图案的底部的尺寸值、或者位于所述图案的上部和底部之间的中间部位的尺寸值。

2.根据权利要求1所述的图案测量装置，其特征在于，

所述运算装置对根据所述检测信号求出的尺寸值相加所述第1部分与第2部分之间的偏移所对应的修正值。

3.一种图案测量装置，其具备：

检测器，其检测基于向试样照射从带电粒子源释放的带电粒子束而得到的带电粒子；以及

控制装置，其基于该检测器的输出来测定在所述试样上形成的凹状的图案的尺寸，

其特征在于，

所述控制装置根据基于对所述试样扫描带电粒子束而得到的检测信号，求出凹状的图案的第1部分与位于与该第1部分不同高度的所述凹状的图案的第2部分之间的偏移以及所述凹状的图案的尺寸值，使用根据该检测信号求出的偏移以及表示预先求出的所述凹状的图案的尺寸与所述偏移之间的关系的关系信息，修正所述尺寸值，

所述尺寸值是所述图案的底部的尺寸值、或者位于所述图案的上部和底部之间的中间部位的尺寸值。

4.根据权利要求3所述的图案测量装置，其特征在于，

所述图案测量装置具备倾斜波束照射机构，该倾斜波束照射机构包含为了从所述带电粒子束相对于理想光轴倾斜的方向对所述试样照射所述带电粒子束而使所述带电粒子束偏转的倾斜用偏转器以及使所述试样倾斜的倾斜工作台中的至少一个，

所述控制装置对所述倾斜用偏转器以及倾斜工作台中的至少一个进行控制来测定多个倾斜角度下的凹状的图案的尺寸值，基于该多个倾斜角度下的凹状的图案的尺寸值来生成所述关系信息。

5.根据权利要求3所述的图案测量装置，其特征在于，

所述图案测量装置具备倾斜波束照射机构，该倾斜波束照射机构包含为了从所述带电粒子束相对于理想光轴倾斜的方向对所述试样照射所述带电粒子束而使所述带电粒子束偏转的倾斜用偏转器以及使所述试样倾斜的倾斜工作台中的至少一个，

所述控制装置根据所述偏移以及所述带电粒子束的倾斜角度，计算所述凹状的图案的倾斜角度。

6.根据权利要求3所述的图案测量装置，其特征在于，

所述检测器包含第1检测器以及与该第1检测器相比配置在试样侧的第2检测器，所述控制装置基于所述第1检测器与所述第2检测器的输出，求出所述第1部分与所述第2部分之间的偏移。

7.根据权利要求3所述的图案测量装置，其特征在于，

所述控制装置判定基于所述检测信号求出的值是否超过了规定值，

基于所述信号求出的值是能够使用上述图案的上部与上述图案的底部之间的偏移、或者所述偏移计算出的值。

8.一种图案测量方法，其基于由带电粒子束装置得到的信号，测定在试样上形成的凹状的图案的尺寸，其特征在于，

根据基于对所述试样扫描带电粒子束而得到的检测信号，求出凹状的图案的第1部分与位于与该第1部分不同高度的所述凹状的图案的第2部分之间的偏移以及所述凹状的图案的尺寸值，使用根据该检测信号求出的偏移以及表示所述图案的尺寸与偏移之间的关系的关系信息，修正所述尺寸值，

所述尺寸值是所述图案的底部的尺寸值、或者位于所述图案的上部和底部之间的中间部位的尺寸值。

9.根据权利要求8所述的图案测量方法，其特征在于，

基于通过对所述试样照射多个不同的倾斜角度的带电粒子束而得到的检测信号来生成所述关系信息。

10.根据权利要求8所述的图案测量方法，其特征在于，

判定基于所述检测信号求出的值是否超过了规定值，

基于所述信号求出的值是能够使用上述图案的上部与上述图案的底部之间的偏移、或者所述偏移计算出的值。