[发明专利]用于测量图案放置及图案大小的设备及方法及其计算机程序

权利要求书

1.一种用于测量半导体产业衬底的表面上的图案放置及/或边缘放置及/或图案大小的设备，所述设备包括：

至少一个检测源；

至少一个检测器，其被指派给所述至少一个检测源；

可移动载台，其用于固持所述衬底且沿选定轨道曲线提供所述至少一个检测源及所述经指派检测器与所述衬底的所述表面之间的相对移动；

位移测量系统，其用于在所述可移动载台的移动期间确定所述可移动载台相对于所述检测源及所述经指派检测器的实际位置且用于基于从所述轨道曲线的偏差而导出轨迹线；及

计算机，其用于使所述至少一个检测器沿所述导出轨迹线的经检测信号与所述载台在其所述移动期间的所述实际位置相关且用于从设计数据库的设计数据沿着所述轨迹线生成设计分布线，其中考虑所述检测器、所述源或所述源与所述衬底的表面上的所述图案之间的交互的一个或多个属性，并且其中所述设计分布线是对应于源自对无误差图案的测量的经测量分布线的经计算分布线。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述至少一个检测源是结合扫描近场光学显微镜SNOM使用的光束。

3.根据权利要求1所述的设备，其中所述至少一个检测源是原子力显微镜AFM。

4.根据权利要求1所述的设备，其中所述至少一个检测源是粒子束。

5.根据权利要求4所述的设备，其中所述粒子束是电子束。

6.根据权利要求1所述的设备，其中所述至少一个检测源是多个检测源的线性阵列或矩阵布置。

7.根据权利要求1所述的设备，其中所述计算机经配置以：监测所述可移动载台的移动，使得所述检测源及所述经指派检测器沿所述轨迹线行进；及收集所述至少一个检测器沿所述轨迹线的测量数据。

8.根据权利要求7所述的设备，其中所述计算机经由网络至少连接到所述位移测量系统、所述可移动载台、所述检测源及所述检测器。

9.一种用于测量半导体产业衬底的表面上的图案放置及/或边缘放置及/或图案大小的方法，所述方法包括以下步骤：

a.实行数据准备以生成至少一个所期望轨道曲线，沿所述轨道曲线引导至少一个检测源及经指派检测器与所述衬底的所述表面之间的相对移动；

b.在可移动载台的移动期间重复地评估来自所述衬底的图案化表面的检测器信号的测量数据且并行地监测所述可移动载台的所述移动；

c.从所述测量数据沿轨迹线生成经测量分布线，其中所述经测量分布线表示所述衬底的所述表面上的所述图案的经测量放置；及

d.评估所述经测量分布线，以便确定所述图案化表面上的边缘或图案的位置或CD，及/或检测所述图案化表面上沿同一轨迹线的放置误差或CD误差，其中通过执行以下步骤来实行步骤d：

从设计数据库的设计数据沿所述轨迹线生成设计分布线，其中所述轨迹线对应于所述检测器与所述衬底的所述表面之间的所述相对移动，且通过模型化以下至少一者的属性而沿所述轨迹线从所述设计数据提取所述设计分布线：所述源、所述检测器或所述源与所述图案之间的交互，且其中所述设计分布线是对应于源自对无误差图案的测量的经测量分布线的经计算分布线；以及

比较沿所述同一轨迹线的所述经测量分布线与所述设计分布线，以便确定所述图案化表面上沿所述同一轨迹线的边缘或图案的位置或CD，及/或检测所述图案化表面上沿所述同一轨迹线的放置误差或CD误差。

10.根据权利要求9所述的方法，其中从与所述所期望轨道曲线的偏差导出所述轨迹线，其中在所述可移动载台的所述移动期间连续地监测所述载台沿所述所期望轨道曲线的移动。

11.根据权利要求9所述的方法，其中通过调整所述检测源或所述检测器来实行所述可移动载台的位置误差的校正，其中实时地实行所述检测源或所述检测器的所述调整。