[发明专利]有机铅卤化物钙钛矿薄膜及制造其的方法

权利要求书

1.一种用于有机铅卤化物钙钛矿薄膜的室温制造的方法，包括：

在室温基于配合基（L）蒸汽和PbX2薄膜之间的固-气反应形成PbX2.(L)y薄膜；

在室温通过使PbX2.(L)y薄膜暴露于有机卤化铵的溶液而形成钙钛矿薄膜；

从有机卤化铵的溶液移除钙钛矿薄膜；

使钙钛矿薄膜暴露于甲胺/醇气体混合物；

从甲胺/醇气体混合物移除钙钛矿薄膜；以及

干燥钙钛矿薄膜。

2.根据权利要求1所述的方法，其中形成PbX2薄膜包括通过旋涂、滴铸、喷涂、Mayer棒技术或刮胶刀技术将PbX2溶液沉积在基板上。

3.根据权利要求1所述的方法，其中PbX2溶液包括PbI2、PbBr2、PbCl2、Pb(C2H3O2)2或其合金。

4.根据权利要求1所述的方法，其中PbX2溶液的浓度在从以毫摩尔为单位的0.05到1.50毫摩尔的范围中。

5.根据权利要求1所述的方法，其中配合基（L）蒸汽包括吡啶、4-叔丁基吡啶、乙二胺、N,N'-dimethylmethanaide、二甲亚砜或其合金。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，基于PbX2薄膜和配合基（L）蒸汽之间的反应时间来确定PbX2薄膜与配合基比，并且其中所述反应时间在从10秒到100秒的范围中。

7.根据权利要求1所述的方法，其中有机卤化铵包括甲基碘化胺、甲基溴化胺、甲基氯化胺、甲脒氢碘酸盐、甲脒氢溴酸盐、甲脒氢氯酸盐或其合金，并且其中有机卤化铵的浓度在从0.03毫摩尔到0.50毫摩尔的范围中。

8.根据权利要求1所述的方法，其中PbX2.(L)y在有机卤化铵的溶液中的暴露时间在从10秒到1000秒的范围中。

9.根据权利要求1所述的方法，其中甲胺/醇气体混合物包括甲醇、乙醇、IPA或其合金，并且其中甲胺与醇的比在从1：20到20：1的范围中。

10.根据权利要求1所述的方法，其中使钙钛矿薄膜暴露于甲胺/醇气体混合物的持续时间在从1秒到60秒范围中。

11.根据权利要求1所述的方法，其中有机铅卤化物钙钛矿薄膜展现了具有(110):(220):(330)=1:0.67:0.09的X射线衍射（XRD）峰相对强度和在300-600nm的范围中的粒大小的高结晶相。

12.根据权利要求1所述的方法，还包括：

形成PbX2溶液；

从PbX2溶液在室温形成PbX2薄膜；以及

干燥PbX2薄膜。

13.根据权利要求1所述的方法，其中在使钙钛矿薄膜暴露于甲胺/醇气体混合物之前，所述方法还包括：

利用异丙醇（IPA）清洗钙钛矿薄膜；以及

干燥钙钛矿薄膜。