[发明专利]具有多个馈送端口的微波炉的波导的RF功率控制系统及其方法

权利要求书

1.一种电磁烹饪装置，所述电磁烹饪装置包括：

加热腔体；

至少一个电磁能量源，所述至少一个电磁能量源构造成产生辐射并经由供应腔体与所述加热腔体连通；

第一端口，所述第一端口构造成将所述辐射从所述供应腔体发射到所述加热腔体的第一区域中；

第二端口，所述第二端口构造成将所述辐射从所述供应腔体发射到所述加热腔体的第二区域中；

隔板，所述隔板沿所述供应腔体设置，其中所述隔板构造成调节自所述第一端口发射到所述加热腔体中的所述辐射和自所述第二端口发射到所述加热腔体中的所述辐射的比例；以及

致动器，所述致动器与所述隔板连接并且构造成将所述隔板从第一位置调节到第二位置，其中，所述隔板在所述第一位置封闭所述第二端口并且在所述第二位置阻挡通向所述第一端口的路径，并且其中，所述隔板在所述第一位置阻挡从所述第二端口的辐射输出并在所述第二位置阻挡传送到所述第一端口的辐射。

2.根据权利要求1所述的电磁烹饪装置，其中所述第一端口定位成更靠近所述腔体的底板。

3.根据权利要求2所述的电磁烹饪装置，其中所述第二端口比所述第一端口距所述底板更远。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的电磁烹饪装置，其中所述第一端口和所述第二端口构造成从所述供应腔体、自所述加热腔体的周边壁处发射所述辐射。

5.根据权利要求1至3中任一项所述的电磁烹饪装置，还包括：

烹饪结构，所述烹饪结构包括构造成响应于所述辐射而产生热能的材料。

6.根据权利要求5所述的电磁烹饪装置，其中所述烹饪结构对应于构造成搁置在所述加热腔体的底板上的盘。

7.根据权利要求1至3中任一项所述的电磁烹饪装置，其中所述电磁能量源对应于构造成将由信号发生器供应的信号放大的放大器。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的电磁烹饪装置，还包括：

控制器，所述控制器与所述电磁能量源通信并且构造成控制所述辐射的频率、相位和幅值中的至少一者。

9.一种电磁烹饪装置，所述电磁烹饪装置包括：

加热腔体；

至少一个电磁能量源，所述至少一个电磁能量源构造成产生辐射并经由供应腔体与所述加热腔体连通；

多个供应端口，所述多个供应端口包括第一端口和第二端口，所述第一端口构造成将所述辐射从所述供应腔体发射到所述加热腔体的第一区域中，所述第二端口构造成将所述辐射从所述供应腔体发射到所述加热腔体的第二区域中；

至少一个隔板，所述至少一个隔板沿所述供应腔体设置，其中所述隔板构造成调节自所述供应端口中每一者发射到所述加热腔体中的所述辐射的比例；

至少一个致动器，所述至少一个致动器构造成将所述至少一个隔板从第一位置调节到第二位置以控制自所述第一端口发射的所述辐射和自所述第二端口发射的所述辐射的所述比例，其中，所述至少一个隔板在所述第一位置封闭所述第二端口并在所述第二位置阻挡通向所述第一端口的路径，并且其中，所述隔板在所述第一位置阻挡从所述第二端口的辐射输出并在所述第二位置阻挡传送到所述第一端口的辐射；以及

控制器，所述控制器与所述致动器和所述至少一个电磁能量源通信，其中所述控制器构造成：

控制来自所述至少一个电磁能量源的所述辐射的发射；以及

控制所述致动器的位置，由此调节自所述端口中每一者发射的所述辐射的比例。

10.根据权利要求9所述的电磁烹饪装置，其中所述第一区域对应于更靠近所述加热腔体的底板的下部区域。

11.根据权利要求10所述的电磁烹饪装置，其中所述第二区域对应于位于比所述第一区域距所述底板更远的位置处的上部区域。