[发明专利]用于对准衬底的方法和设备

说明书

本发明涉及一种用于在使用多个检测单元的情况下将第一衬底(16)与第二衬底(17)对准和接触的方法以及一种对应设备。

技术领域

本发明涉及用于将第一衬底与第二衬底对准和接触的方法以及一种对应设备。

背景技术

在半导体产业中，对准设施(英语：aligner（对准器）)用于将衬底、尤其是晶圆彼此对准，以便在进一步方法步骤中将其连接在一起。该连接过程称为接合。

如下对准过程称为面对面对准：其中，对准标记处于待接合的衬底表面上。

只要是衬底对于用于测量衬底的电磁辐射不是透明的以使得能够从背离待接合的衬底表面的外部衬底表面来检测和/或确定对准标记的位置和方位，就在衬底朝彼此接近之前用图像检测装置在衬底之间检测对准标记。

这具有各种缺点，尤其是由相机进行的颗粒污染（Partikelkontamination）及衬底之间的大间距，以便将用于检测的相机放置在两个衬底之间。由此得出在相互接近时的对准误差。

由出版物US6214692B1的对准设施示出面对面对准的改善方案，该出版物可被认为是最接近的现有技术。在该对准设施的情况下，使用两个光学装置组，其中所述两个光学装置组分别具有彼此相对置的光学装置，以便创建具有两个参考点的系统，所述衬底关于所述系统相互定位。参考点是彼此相对置的两个光学装置的光轴的交点。

现有技术的问题在于，增大的对准精确度要求不再能够通过所公开的开放式、经控制的方法来实现。

出版物US6214692B1基于对准标记的两个图像的比较和位置校正。借助相机系统单独检测对准标记在面对面布置的两个衬底上的方位。如此由对准标记的经计算的相对方位和相对位置来操控定位平台(衬底支架和载物台（Stage）)，使得错误位置被校正。定位平台具有接近引导装置地以及接近驱动器地定位的增量行程传感器。

发明内容

因此，本发明的任务是：说明一种用于衬底的对准和接触的设备及方法，利用该设备及方法实现衬底的更精确及更有效的对准和接触。