[发明专利]成像质谱分析装置

说明书

关注区域设定部(41)根据用户的指定来决定试样上的二维的关注区域和该区域中的多个测定点(微小区域)。测定区域设定部(42)在关注区域内的各测定点的附近且与该测定点完全不重叠的位置处分别决定不同的测定点，并设定包括所述多个不同的测定点的测定区域。当用户从输入部(5)分别对关注区域和测定区域单独地指定测定方法时，测定方法分配部(44)对各区域分配测定方法并进行存储。分析控制部(3)按照对关注区域中和测定区域中的各测定点分配的测定方法来执行质谱分析并将数据保存到数据保存部(21)。测定区域是稍微偏离了关注区域的位置，测定区域与关注区域视为成分的二维分布大致相同。因此，能够几乎不受由激光照射产生的成分或基质的消耗的影响地获取不同的测定方法下的针对关注区域的高品质的MS成像图像。

技术领域

本发明涉及如下一种成像质谱分析装置：对试样上的二维区域内的多个测定点(微小区域)分别进行质谱分析，基于由此得到的信息来制作反映了上述二维区域内的物质的分布等的图像。

背景技术

质谱分析成像法是如下一种方法：通过对生物体组织切片等试样的二维区域内的多个测定点分别进行质谱分析，来研究具有特定质量的物质的分布，该质谱分析成像法正不断应用于药物发现(drug discovery)、生物标记探索、各种疾病/疾患的原因探明等。用于实施质谱分析成像法的质谱分析装置一般被称为成像质谱分析装置(参照非专利文献1、专利文献1等)。另外，通常利用光学显微镜对试样上的任意的二维区域进行观察，基于该光学图像来决定测定对象区域并执行针对该区域的成像质谱分析，因此有时也被称为显微质谱分析装置、质谱显微镜等，但在本说明书中决定称为“成像质谱分析装置”。

成像质谱分析装置一般利用离子化法，在该离子化法中，通过对放置在试样台上的试样照射收敛为细径的激光、电子线、离子线、中性原子线等粒子线、含有带电液滴的气体流、或者等离子气体流等，来将该试样中含有的物质进行离子化。向试样照射的细径的激光、粒子线等经常被统称为探针或离子化探针，因此在此决定称为离子化探针。一般地，在这种离子化法中，通过对试样照射一次脉冲形式的离子化探针而生成的离子的量少。因此，为了使作为检测对象的离子的信号强度增加，一般将对试样上的某一个测定点照射离子化探针并获取质谱数据这样的测定重复进行多次，通过对所得到的多个质谱数据进行累计来获得与该测定点对应的质谱。

关于如上所述的离子化法，虽然根据离子化探针的种类不同，离子化的机理不同，但由于在使试样中的目标成分解吸之后进行离子化，因此基本上是有损分析。因此，当对相同的测定点重复进行离子化探针的照射也就是重复进行测定时，该测定点处的试样中的目标成分逐渐地减少，质谱的品质下降。特别是在基质辅助激光解吸离子化(MALDI)法的情况下，通过对试样照射激光，不仅消耗试样中的目标成分，还消耗为了辅助离子化而对试样添加的基质，因此重复测定同一测定点时的质谱的品质下降明显。基于这样的理由，通常预先决定针对同一测定点的测定的重复次数(离子化探针的照射总次数)、离子化探针的总照射时间的上限，使得所获得的质谱的品质下降收敛于允许范围，以不超过该上限的方式设定每个测定点的离子化探针的照射次数、照射时间之类的分析条件。

另外，一般地，在质谱分析装置中尤其对成分的种类、量未知的试样进行测定的情况下，为了获得尽可能高的信号强度，需要通过预备的测定，来将离子化条件(例如在MALDI法中为激光功率、激光脉冲照射次数等)、对离子输送光学系统施加的施加电压等MS分析条件、例如包括碰撞诱导裂解时的碰撞能量、碰撞气体压力等的MSⁿ分析条件等各种参数值调整为最佳值。这种所谓的测定方法的调整在成像质谱分析装置中也是重要的。