[发明专利]用于电子工业中的溶剂有效
| 申请号： | 201680089183.6 | 申请日： | 2016-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN109690415B | 公开（公告）日： | 2023-05-09 |
| 发明（设计）人： | 蒋奇;任华;姜鑫;金應圭 | 申请（专利权）人： | 陶氏环球技术有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京坤瑞律师事务所 11494 | 代理人： | 封新琴 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 电子工业 中的 溶剂 | ||
1.一种由以下组成的溶剂，按所述溶剂的重量计：
(A)1至70wt％的由二甲亚砜(DMSO)和N-甲酰基吗啉中的至少一种组成的第一组分，以及
(B)30至99wt％的由以下中的至少一种组成的第二组分：N,N-二甲基丙酰胺、3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺、N,N-二甲基乙酰乙酰胺和N-甲基-ε-己内酰胺。
2.根据权利要求1所述的溶剂，其中所述第一组分是N-甲酰基吗啉，并且所述第二组分由N,N-二甲基丙酰胺或3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺中的至少一种组成。
3.根据权利要求2所述的溶剂，其中所述第二组分是N,N-二甲基丙酰胺。
4.根据权利要求2所述的溶剂，其中所述第二组分是3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺。
5.根据权利要求1所述的溶剂，按所述溶剂的重量计，其由1至60wt％的所述第一组分和40至99wt％的所述第二组分组成。
6.根据权利要求5所述的溶剂，其中所述第一组分是DMSO，并且所述第二组分由N,N-二甲基丙酰胺或3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺中的至少一种组成。
7.根据权利要求6所述的溶剂，其中所述第二组分是N,N-二甲基丙酰胺。
8.根据权利要求6所述的溶剂，其中所述第二组分是3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺。
9.根据权利要求1所述的溶剂，按所述溶剂的重量计，其由40至70wt％的所述第一组分和30至60wt％的所述第二组分组成。
10.根据权利要求9所述的溶剂，其中所述第一组分由DMSO和N-甲酰基吗啉中的至少一种组成，并且所述第二组分由N,N-二甲基乙酰乙酰胺和N-甲基-ε-己内酰胺中的至少一种组成。
11.根据权利要求10所述的溶剂，其中所述第一组分是N-甲酰基吗啉，并且所述第二组分是N,N-二甲基乙酰乙酰胺。
12.根据权利要求10所述的溶剂，其中所述第一组分是DMSO，并且所述第二组分是N-甲基-ε-己内酰胺。
13.一种清洁或剥除衬底的表面的方法，所述方法包括使所述衬底与由以下组成的溶剂接触的步骤，按所述溶剂的重量计：
(A)1至70wt％的由二甲亚砜(DMSO)和N-甲酰基吗啉中的至少一种组成的第一组分，和
(B)30至99wt％的由以下中的至少一种组成的第二组分：N,N-二甲基丙酰胺、3-甲氧基-N,N-二甲基丙酰胺、N,N-二甲基乙酰乙酰胺和N-甲基-ε-己内酰胺。
14.根据权利要求13所述的方法，其中所述衬底为电子部件，并且所述表面含有污染物或金属离子。
15.根据权利要求14所述的方法，其中所述污染物为聚(酰胺酸)残余物或聚酰亚胺残余物。
16.根据权利要求13所述的方法，其中所述衬底为电子部件，并且表面含有光刻胶。
17.根据权利要求13所述的方法，其中所述第一组分是DMSO。
18.根据权利要求13所述的方法，其中所述第一组分是N-甲酰基吗啉。
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