[发明专利]清洗衬底的方法和装置有效
申请号: | 201680089376.1 | 申请日: | 2016-09-19 |
公开(公告)号: | CN109789450B | 公开(公告)日: | 2023-01-03 |
发明(设计)人: | 王晖;王希;陈福平;陈福发;王坚;张晓燕;金一诺;贾照伟;王俊;李学军 | 申请(专利权)人: | 盛美半导体设备(上海)股份有限公司 |
主分类号: | B08B3/12 | 分类号: | B08B3/12 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陆嘉 |
地址: | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 清洗 衬底 方法 装置 | ||
1.一种使用超/兆声波装置清洗衬底上的通孔、凹进区域的方法,其特征在于,包括:
将液体喷射到衬底和超/兆声波装置之间的间隙中;
设置超/兆声波电源的频率为f1,功率为P1以驱动超/兆声波装置在气泡总体积和衬底上的通孔、凹进区域的体积的比值增大到第一设定值后,设置超/兆声波电源的频率为f2,功率为P2以驱动超/兆声波装置;
在气泡总体积和衬底上的通孔、凹进区域的体积的比值减小到第二设定值后,再次设置超/兆声波电源的频率为f1,功率为P1;
重复以上步骤直到衬底洗净。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,第一设定值低于气泡饱和点。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,第一设定值为气泡饱和点。
4.如权利要求3所述的方法,其特征在于,即使在气泡总体积和衬底上的通孔、凹进区域的体积的比值达到气泡饱和点后,超/兆声波电源仍然保持频率为f1,功率为P1,且持续时间为mτ1,这里的τ1为达到气泡饱和点的时间,m为τ1的倍数,随后,设置超/兆声波电源的频率为f2,功率为P2以驱动超/兆声波装置。
5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,m的值为0.1-100。
6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,气泡内的温度冷却导致气泡总体积和衬底上的通孔、凹进区域的体积的比值减小到第二设定值。
7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,设置所述超/兆声波电源频率为f1,功率为P1和设置所述超/兆声波电源频率为f2,功率为P2之间的时间间隔小于2000倍的频率为f1的波形周期。
8.如权利要求1所述的方法,其特征在于,设置所述超/兆声波电源频率为f1,功率为P1和设置所述超/兆声波电源频率为f2,功率为P2之间的时间间隔小于((Vi-V0–ΔV)/(ΔV-δV)+1)/f1,其中,Vi为所需体积,V0为初始体积,ΔV为气泡在一次压缩后的体积减量,δV为气泡在一次膨胀后的体积增量。
9.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述功率P2的值设为0。
10.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述频率f1等于所述频率f2,所述功率P2小于所述功率P1。
11.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述频率f1高于所述频率f2,所述功率P2小于所述功率P1。
12.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述频率f1小于所述频率f2,所述功率P1等于所述功率P2。
13.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述频率f1小于所述频率f2,所述功率P1大于所述功率P2。
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