[发明专利]组合物、空穴传输材料组合物和油墨组合物有效
申请号: | 201680089835.6 | 申请日: | 2016-10-03 |
公开(公告)号: | CN109790360B | 公开(公告)日: | 2022-01-25 |
发明(设计)人: | 加茂和幸;佐久间广贵;石塚健一;杉冈智嗣;吉成优规;本名凉;龙崎大辅 | 申请(专利权)人: | 昭和电工材料株式会社 |
主分类号: | C08L65/00 | 分类号: | C08L65/00;C08G61/12 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 陈建全 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 组合 空穴 传输 材料 油墨 | ||
1.一种组合物,其含有聚合物或低聚物(A)和引发剂(B),
所述聚合物或低聚物(A)含有:含有芳香族胺结构的2价结构单元;和选自含有芳香族胺结构的3价以上结构单元和含有咔唑结构的3价以上结构单元中的至少1种结构单元,所述聚合物或低聚物(A)的1个以上的末端上含有包含可以具有取代基的噻吩基的1价结构单元,并且,所述聚合物或低聚物(A)不含碳数为5以上的烷基,
所述聚合物或低聚物(A)具有分支结构、并且具有3个以上的末端,所有末端中的3个以上末端上具有噻吩基,
选自所述含有芳香族胺结构的3价以上结构单元和所述含有咔唑结构的3价以上结构单元中的至少1种结构单元含有选自下述的结构单元中的至少一种,
式中,Ar表示为亚苯基,Ar不具有取代基,
所述噻吩基含有选自下述的式(Ia)所表示的结构和式(Ib)所表示的结构中的至少1种,
式(Ia)和式(Ib)中的R1~R3分别独立地表示氢原子或碳数为1~4的烷基,R1~R3中的至少2个为氢原子,
所述组合物的溶解度通过对所述组合物施加热、光、或者热和光这两者而发生变化。
2.根据权利要求1所述的组合物,其中,所述噻吩基含有选自下述的基团中的至少1种,
式中,n是1。
3.根据权利要求1或2所述的组合物,其中,所述芳香族胺结构和所述咔唑结构不具有取代基、或者具有碳数为1~4的烷基或碳数为1~4的烷氧基。
4.根据权利要求1或2所述的组合物,其中,所述聚合物或低聚物(A)的所有末端上具有噻吩基。
5.根据权利要求1或2所述的组合物,其中,所述引发剂(B)含有氧化剂。
6.根据权利要求1或2所述的组合物,其中,所述引发剂(B)含有鎓盐。
7.根据权利要求1或2所述的组合物,其中,所述聚合物或低聚物(A)的重均分子量为1000~1000000。
8.根据权利要求1或2所述的组合物,其进一步含有溶剂(C)。
9.根据权利要求1或2所述的组合物,其中,所述聚合物或低聚物(A)的根据Owens-Wendt法以极性成分和非极性成分这两种成分之和来表示的表面自由能为41mJ/m2以上。
10.一种空穴传输材料组合物,其含有权利要求1~9中任一项所述的组合物。
11.一种油墨组合物,其含有权利要求1~9中任一项所述的组合物。
12.一种有机层,其是通过涂布权利要求1~9中任一项所述的组合物、权利要求10所述的空穴传输材料组合物或权利要求11所述的油墨组合物、并且施加热、光、或者热和光这两者来形成的。
13.一种有机层的制作方法,其包含下述工序:
涂布权利要求1~9中任一项所述的组合物、权利要求10所述的空穴传输材料组合物或权利要求11所述的油墨组合物来形成涂布层的工序;和
对所述涂布层施加热、光、或者热和光这两者的工序。
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