[发明专利]检查基板的方法和具有指令存储于其上的计算机可读介质

说明书

描述一种用于检查基板的方法。所述方法包括：在真空腔室中提供基板，所述基板是大面积基板，其中所述基板具有薄膜，所述薄膜具有沉积在所述基板上的晶粒结构；用成像带电粒子束显微镜产生一次带电粒子束，其中所述一次带电粒子束撞击在所述真空腔室中的所述基板上；以及从在所述一次带电粒子束撞击时从所述基板释放的信号粒子产生一个或多个图像，其中所述一个或多个图像是形貌图像。

技术领域

本公开内容涉及LTPS层鉴定以及一种检查基板的方法。更具体地，本文所述的实施方式涉及一种用于检查用于显示器制造的基板的方法，更具体地涉及用于显示器制造的大面积基板。

背景技术

在许多应用中，需要将薄层沉积在基板上，例如在玻璃基板上。常规地，基板在涂覆设备的不同腔室中进行涂覆。对于一些应用，使用气相沉积技术在真空中涂覆基板。在过去几年中，电子装置并特别是光电装置的价格大幅降低。此外，在显示器中的像素密度不断增加。对于TFT显示器，需要高密度的TFT集成。然而，即使装置内的薄膜晶体管(TFT)的数量增加，仍尽可能希望增加产率并尽可能降低制造成本。

增加像素密度的一个方面是采用LTPS-TFT(LTPS＝低温多晶硅)，LTPS-TFT可以用于例如LCD或AMOLED显示器。在LTPS-TFT的制造期间，栅极电极可以用作对有源层的接触区域向晶体管的源极和漏极掺杂的掩模。这种自对准掺杂的质量可以确定制造工艺的产率。因此，需要改进和控制这种工艺。然而，其它自对准掺杂应用，即除了LTPS-TFT的工艺之外的应用，也可以受益于改进的工艺。

对于这些工艺，检查基板以监测基板的质量(即，沉积层的质量，特别是LTPS层的质量)是有益的。例如，在其上沉积有涂层材料层的玻璃基板被制造以用于显示器市场。显示器通常在尺寸不断增大的大面积基板上制造。此外，诸如TFT显示器的显示器也在进行不断改进。例如，低温多晶硅(LTPS)是其中可关于背光来实现低能耗和改善的特性的一种发展。

对基板的检查可以通过例如光学系统来执行。然而，在晶界处的晶粒的LTPS晶粒结构、晶粒尺寸和晶粒形貌特别难以用光学系统来审查，因为晶粒尺寸可能低于光学分辨率，使得晶粒对于光学系统而言是不可见的。对基板的小部分的检查也已经使用带电粒子束装置结合表面蚀刻来进行。表面蚀刻可以增强例如晶界的对比度，但造成破坏玻璃基板，使得对基板的小片部分而非基板的整体进行检查。因此，在检查基板之后，就不可能继续处理基板，例如检查晶粒结构对最终产品的影响。

因此，鉴于例如对大面积基板上的显示器的质量的要求越来越高，因此需要一种用于检查大面积基板的改进的方法。

发明内容

提供了一种检查基板的方法以及一种利用所述方法的设备。本公开内容的多个方面、益处和特征可从权利要求书、说明书和附图显而易见。

根据一个实施方式，提供了一种用于检查基板的方法。所述方法包括：在真空腔室中提供基板，所述基板是大面积基板，其中所述基板具有薄膜，所述薄膜具有沉积在基板上的晶粒结构；用成像带电粒子束显微镜产生一次带电粒子束，其中所述一次带电粒子束撞击在所述真空腔室中的所述基板上；以及从在一次带电粒子束撞击时从所述基板释放的信号粒子产生一个或多个图像，其中所述一个或多个图像为形貌图像。

在一些实施方式中，本文所述的发明方法可以在计算机可读介质中实施。所述计算机可读介质具有储存在其上的指令，所述指令在被执行时致使带电粒子束显微镜执行如本文所述的方法中的任一种的用于检查基板的方法。

附图说明

在本说明书的其余部分中，更具体地阐述了对本领域的普通技术人员而言完整且可实现的公开内容，其中包括对附图的参考，其中：

图1示出了用于本文所述的实施方式的成像带电粒子束显微镜的侧视图。

图2示出了用于本文所述的实施方式的包括分段闪烁器(scintillator)的检测布置。