[发明专利]一种6-磺酸酯基嘧啶水杨酸类化合物及其制备方法和应用

说明书

本发明涉及除草剂领域，公开了一种6‑磺酸酯基嘧啶水杨酸类化合物及其制备方法和应用，该化合物具有式(1)所示的结构，制备6‑磺酸酯基嘧啶水杨酸类化合物的方法包括：(1)将式(2)所示结构的化合物与R²SO₂Cl进行第一接触反应，得到式(3)所示的化合物；(2)将所述式(3)所示的化合物与三氟乙酸进行第二接触反应。本发明提供的6‑磺酸酯基嘧啶水杨酸类化合物对乙酰羟酸合成酶具有良好的抑制作用，同时针对乙酰羟酸合成酶抑制剂类除草剂产生抗性的杂草具有显著的反抗性抑制作用。从而能够防治乙酰羟酸合成酶突变导致的杂草抗性植株。

技术领域

本发明涉及除草剂领域，具体地，涉及一种6-磺酸酯基嘧啶水杨酸类化合物及其制备方法和应用。

背景技术

乙酰羟酸合成酶(AHAS，Acetohydroxyacid Synthase)抑制类除草剂是通过抑制植物体内乙酰羟酸合成酶的活性以阻断关键支链氨基酸(缬氨酸、亮氨酸以及异亮氨酸)的合成，造成杂草的死亡，达到防治杂草的目的。

乙酰羟酸合成酶抑制类除草剂一直以低毒、高效、广谱等特性在农药市场中占据重要的地位。然而，由于在田间长期的不合理施用，且作用位点单一，该类抑制剂正面临着极为严重的杂草抗性问题，极大地限制了其未来的发展。因此，如何有效缓解其严重的抗药性问题成为了研究的热点。

全球范围内，已有61个国家和地区报道了杂草对除草剂产生抗性的实例。其中，美国报道的抗性杂草数目达到了144种，紧随之后的是澳大利亚(62种)和加拿大(59种)。中国地区的抗性杂草实例在近20年来也被广泛报道，位列全球第五位(35种)。

乙酰羟酸合成酶抑制剂产生杂草抗性的主要原因是由于其作用位点的关键氨基酸残基发生单点突变。至今，有7个抗性突变位点在田间杂草中得到了证实，分别是Ala122、Pro197、Ala205、Asp376、Trp574、Ser653、Gly654(以拟南芥AHAS催化亚基的序列进行编号)。其中，Pro197位点的突变现象最为常见，突变类型最为广泛，一共涉及8种突变类型(P197A、P197T、P197S、P197R、P197Q、P197L、P197H和P197I)。在144种对乙酰羟酸合成酶抑制剂类除草剂具有抗性的杂草中，有70种抗性杂草属于P197突变型，占所有AHAS抗性杂草种群的一半，并且所产生的杂草抗性问题几乎涵盖了所有类型AHAS抑制剂。因此，基于该位点突变设计具有反抗性的抑制剂具有显著的现实意义。

发明内容

本发明的目的是：针对杂草对现有技术提供的乙酰羟酸合成酶抑制剂类除草剂产生抗性的缺陷，在保证对乙酰羟酸合成酶具有良好的抑制作用的前提下，提供一种针对乙酰羟酸合成酶抑制剂类除草剂产生抗性的杂草的反抗性抑制剂。

为了实现上述目的，第一方面，本发明提供一种6-磺酸酯基嘧啶水杨酸类化合物，该化合物具有式(1)所示的结构，

其中，R¹选自H、C_1-6的烷基、硝基和卤素中的至少一种；

R²选自取代或未取代的C_1-10的烷基，取代或未取代的C_6-20的芳基，取代或未取代的含有N、O和S中的至少一种杂原子的5～7元饱和或不饱和杂环，且其中的取代基选自卤素、C_1-4的烷基、C_1-4的烷氧基、硝基、三氟甲基和苯基中的至少一种；

R³和R⁴各自独立地为H、C_1-3的烷基和卤素中的至少一种。

第二方面，本发明提供一种制备6-磺酸酯基嘧啶水杨酸类化合物的方法，该化合物具有式(1)所示的结构，该方法包括：