[发明专利]光刻胶涂覆方法和装置

权利要求书

1.一种光刻胶涂覆装置，包括：

供气单元(10)，用于向光刻胶涂覆单元(20)供应气体；

所述光刻胶涂覆单元(20)，包括：

由侧壁、底板和盖板(206)包封的设备腔体(202)，

旋转平台(204)，用于承载基片(205)并带动基片旋转，

与基片(205)共形的导流单元，用于将供气单元供应的气体均匀地吹过涂覆了光刻胶的基片表面，其中与基片共形的导流单元在所述基片和所述导流单元之间产生均匀的与基片表面平行的径向气流；以及

抽气单元(203)，对所述设备腔体(202)抽气。

2.根据权利要求1所述的光刻胶涂覆装置，其中所述导流单元包括：

位于基片(205)上方的所述盖板(206)，并且所述盖板的中心与基片的中心重合,所述盖板的表面形状与基片的表面形状共形；

多个进气孔(207)，位于所述盖板中心，并且用于将供气单元供应的气体通过所述进气孔输入设备腔体(202)内；

多个抽气孔(209)，设置于所述光刻胶涂覆单元(20)的底板上，所述多个抽气孔以旋转平台(4)的转动轴为中心对称排布；以及

其中所述抽气单元(203)与所述抽气孔(209)相连通，并且通过所述抽气孔(209)对所述设备腔体(202)抽气。

3.根据权利要求1或2所述的光刻胶涂覆装置，其中所述供气单元(10)是开放式供气单元或管道式供气单元。

4.根据权利要求3所述的光刻胶涂覆装置，其中在所述供气单元是管道式供气单元的情况下，管道的数量与进气孔(207)数量一致，管口口径确保与进气孔(207)无缝衔接。

5.根据权利要求3所述的光刻胶涂覆装置，其中所述供气单元(10)的气流量大小可调节。

6.根据权利要求3所述的光刻胶涂覆装置，其中所述供气单元供应的气体是高洁净压缩空气或高纯氮气。

7.根据权利要求3所述的光刻胶涂覆装置，其中所述抽气单元(203)的气流量大小可调节，并且所述抽气单元的抽气流量不小于供气单元(10)的供气流量。

8.根据权利要求3所述的光刻胶涂覆装置，其中所述抽气孔(209)均匀分布于旋转台四周。

9.根据权利要求3所述的光刻胶涂覆装置，其中所述盖板(206)由设备腔体(202)侧壁上设置的载盖台(2081,2082)承载，并且所述载盖台上下移动以调节所述盖板(206)与基片(205)的间距。

10.根据权利要求9所述的光刻胶涂覆装置，其中所述基片的表面与所述盖板之间的间距在5～50mm之间。

11.根据权利要求9所述的光刻胶涂覆装置，其中所述盖板(206)周围设置有密封条，以确保气流只由位于中心的进气孔(207)送入。

12.根据权利要求3所述的光刻胶涂覆装置，其中所述进气孔(207)的几何形状为圆对称形。

13.根据权利要求3所述的光刻胶涂覆装置，其中如果设置多个进气孔(207)，则所述多个进气孔(207)按照圆对称分布均匀排列。

14.根据权利要求1所述的光刻胶涂覆装置，其中所述旋转平台(204)的转速可调，并且所述转速小于300rpm。