[发明专利]一种高切削高亮度氧化铝抛光粉的制备方法

说明书

本发明公开了一种高切削高亮度氧化铝抛光粉的制备方法，步骤包括原料酸处理，水热反应，煅烧和粉碎。本发明的有益效果是：简单而有效，可在现有设备的条件下进行；可以使氧化铝切削力增加的情况下不会影响抛光亮度；粒度可控性好，适用性强；此发明方法制得的氧化铝抛光粉，可使不锈钢抛光速率增加40％以上，亮度增加30％。

技术领域

本发明涉及一种抛光粉的制备方法，特别是涉及一种高切削高亮度氧化铝抛光粉的制备方法。

背景技术

机械抛光是靠切削、材料表面塑性变形去掉被抛光后的凸部而得到平滑面的抛光方法，一般使用油石条、羊毛轮、砂纸等，以手工操作为主，特殊零件如回转体表面，可使用转台等辅助工具，表面质量要求高的可采用超精研抛的方法。超精研抛是采用特制的磨具，在含有磨料的研抛液中，紧压在工件被加工表面上，作高速旋转运动。利用该技术可以达到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各种抛光方法中最高的。

氧化铝因具有高硬度、稳定性好等优点而在工业制造磨削抛光过程中有突出表现，近年来在国内外与之相关的研究与制造技术也非常活跃。高纯超精细a-氧化铝粉体，粉体一次粒径为20-40纳米，该产品具有良好的微粒形状，纯度高、粒度分布均匀等方面优点。应用于：1.荧光粉、高压钠灯管、催化剂载体、纳米电镀业、透明烧结体、精密抛光生物陶瓷、电子陶瓷、精细研磨抛光等领域。2.大尺寸蓝宝石单晶、激光晶体、光纤接口等光学晶体等领域。现有国内氧化铝抛光粉的问题在于：切削力不够是由于氧化铝颗粒粉末没有较强的硬度和较好的自锐性，抛光亮度有一层雾蒙蒙的感觉，达不到黑透的国外进口抛光粉效果。

中国专利CN101824279B公开了一种制备高精度氧化铝抛光粉的方法，通过混合打浆、过筛、水力离心的方法来筛选获得高精度氧化铝抛光粉，这种方法虽然理论上可获得高精度氧化铝抛光粉，但是工业上不能大批量加工，且对原料要求高，产物纯度却不高。中国专利CN101628728A公开了一种白刚玉超精细研磨微粉的生产方法，采用水力沉降法分级，虽然可以提高精度，并使最终产品保持松散状态，但是不能满足工业化大生产快速分离。中国专利CN104403575B公开了一种高精度氧化铝抛光粉的制备方法，通过将原料混样，加入分散剂，制成混合产物，达到市场所需要求，然而这种制备方法做出来的产品在高温反应会发生严重粘结使物料不易粉碎，粒度不好控制，无法适应所有抛光需求，亮度效果并不理想。

发明内容

为解决现有氧化铝抛光粉制作工艺复杂，粒度控制难，切削力差，产品适用范围窄等缺陷，我们提出了一种高切削高亮度氧化铝抛光粉的方法，该方法具有工艺流程简单，设备投入少，条件可控性强，适合工业化大生产，产品切削力强，光亮度高，可适配性强等特点。

本发明是通过以下技术方案实现的：

为达到上述目的，本发明提供了一种高切削高亮度氧化铝抛光粉的制备方法，步骤如下：

(1)原料酸处理

将原料勃姆石放入盐酸溶液中，质量比为2:5，所用盐酸浓度为8.5-9.7mol/L；搅拌使勃姆石在酸溶液中始终处于悬浮状态，反应5-8小时，反应后压滤，保留固体物料。

(2)水热反应

将步骤(1)中酸处理完成后的物料与硅酸锆按质量比2:1加入到反应釜内，加入去离子水，调节pH在5.0-6.0，反应温度100-150℃，10小时后结束反应，压滤，保留固体物料。

(3)煅烧

将步骤(2)中所得物料在真空高温炉中煅烧1320-1550℃，保温时间为4小时。

(4)粉碎

将步骤(3)中煅烧好的物料放入粉碎机中进行粉碎，粉碎至粒度范围为：D10≥0.8μm D50＝5.0μm D90≤10.0μm。