[发明专利]一种溶水膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201710006495.2 | 申请日： | 2017-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN106833039B | 公开（公告）日： | 2019-04-16 |
| 发明（设计）人： | 朱杰 | 申请（专利权）人： | 张家港市铭斯特光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C09D1/00 | 分类号： | C09D1/00 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 孙仿卫 |
| 地址： | 215623 江苏省苏州市张家*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 溶水膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种溶水膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
（1）将质量分数为8%-14%的氢氧化钠放入去离子水中，然后再将质量分数为0.4%-0.6%的高锰酸钾放入所述去离子水中，反应5-10分钟，最后再将质量分数为0.8%-1.2%的氢氧化钾放入所述去离子水中，反应5-10分钟后制得静电液；
（2）将所述静电液与石油醚混合后制得混合液，所述静电液与所述石油醚的质量比为8:1-12:1；
（3）涂抹所述混合液，在35℃-45℃的温度下烘烤20-40分钟后制得溶水膜。
2.根据权利要求1所述的一种溶水膜的制备方法，其特征在于：在所述步骤（3）中制得的所述溶水膜上继续涂抹所述混合液，再在35℃-45℃的温度下烘烤20-40分钟，重复该步骤2-3次。
3.根据权利要求1所述的一种溶水膜的制备方法，其特征在于：所述氢氧化钠的质量分数为10%-12%。
4.根据权利要求1所述的一种溶水膜的制备方法，其特征在于：所述高锰酸钾的质量分数为0.5%。
5.根据权利要求1所述的一种溶水膜的制备方法，其特征在于：所述氢氧化钾的质量分数为1%。
6.根据权利要求1所述的一种溶水膜的制备方法，其特征在于：所述静电液与所述石油醚的质量比为10:1。
7.根据权利要求1所述的一种溶水膜的制备方法，其特征在于：在所述步骤（3）中，烘烤所述混合液的温度为40℃，烘烤所述混合液的时间为30分钟。
8.根据权利要求1所述的一种溶水膜的制备方法，其特征在于：所述去离子水的电阻率为1*10-18Ω·m。
9.根据权利要求1-8中任一项所述的制备方法制得的溶水膜。
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