[发明专利]一种掩膜板、曝光装置及其进行曝光的方法

说明书

技术领域

本发明涉及曝光技术领域，尤其涉及一种掩膜板、曝光装置及其进行曝光的方法。

背景技术

掩膜板作为转移微细图形的工具，在显示面板生产中具有承上启下的关键作用，是显示面板产业链中不可或缺的重要环节。生产过程中有多少次光刻就需要多少张不同图形的掩膜板，即同一工艺制程的膜层图案和对位标识制作在同一张掩膜板上，不同工艺制程的膜层图案和对位标识制作在不同的掩膜板上上，利用对位标识保证各膜层图案的精确位置。例如如图1所示，a代表包含栅极层(G)图案和对位标识的掩膜板，b代表另一张包含源漏极层(SD)图案和对位标识的掩膜板。对位标识实现对位的原理是基板上形成包含栅极层图案的掩膜板的对位标识，实现包含栅极层图案的掩膜板与基板之间的对位；而源漏极层图案的掩膜板上设置有与栅极层图案的对位标识互补的对位标识，c代表最终经过对位光学系统以后图像传感器(Charge-coupled Device，CCD)抓到的完整的对位后的图案。可见，掩膜板的数量代表了制造过程中采用的光刻工艺子流程的数目，而掩膜板价格昂贵，一直占据着技术开发项目成本中的绝大部分。

为降低技术开发成本，目前，高世代线的技术开发项目大部分采用选择性的搭载已开发产品的方式进行。具体方式是更改其中的一张或两张掩膜板，通过共用其他掩膜板和工艺条件来降低成本和提高开发成功率。长期以来，这种方式已被验证是进行技术开发的最有效的方式，但是由于这种方式只针对单个关键技术进行开发，因此，只适用于改良和性能提升的技术开发，而不能进行颠覆性创新设计，例如新像素和新面板等的开发和验证，从而导致整个行业每年新产生的大部分专利成果都无法得到验证，严重影响了高性能产品的开发周期。

若新开掩膜板进行较大创新项目的验证以缩短开发周期，则需要抛弃原有的开发载体重新设计一整套掩膜板，这样会成倍地增加开发成本。因此，如何设计掩膜板，以解决开发颠覆性创新设计的成本是目前亟需解决的问题。

发明内容

本发明实施例提供一种掩膜板、曝光装置及其进行曝光的方法，用以解决现有技术中存在的如何设计掩膜板，以解决开发颠覆性创新设计的成本是目前亟需解决的问题。

本发明实施例提供一种掩膜板，包括：至少两个并排设置的用于形成单膜层图案的有效图形的掩膜图案区域，以及与各所述掩膜图案区域分别对应的至少两组对位标识；每组所述对位标识中包含的两个所述对位标识以对应的所述掩膜图案区域为中心对称设置。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述掩膜板中，在所述掩膜板中最先使用的掩膜图案区域对应的对位标识的图案与其他掩膜图案区域对应的对位标识的图案互补。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述掩膜板中，各所述掩膜图案区域按照用于形成的单膜层图案的有效图形的制备顺序依次顺序排列。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述掩膜板中，全部所述掩膜图案区域用于采用相同性质光刻胶形成单膜层图案的有效图形。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述掩膜板中，在全部所述掩膜图案区域用于采用正性光刻胶形成单膜层图案的有效图形时，所述各单膜层图案用于形成的单膜层图案为以下任意组合：栅极层图案、有源层图案、源漏极层图案、树脂层图案、公共电极层图案和像素电极层图案；

在全部所述掩膜图案区域用于采用负性光刻胶形成单膜层图案或采用正性光刻胶形成过孔图案的有效图形时，所述各单膜层图案用于形成的单膜层图案为以下任意组合：第一层绝缘层图案、第二层绝缘层图案和紫外固化图案。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述掩膜板中，与各所述掩膜图案区域分别对应的对位标识为两组，分别设置在对应的所述掩膜图案区域的四角位置。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述掩膜板中，在全部所述掩膜图案区域用于采用负性光刻胶形成单膜层图案的有效图形时，所述各单膜层图案用于形成的单膜层图案为以下任意组合：黑矩阵层图案、彩色树脂层图案和光阻层图案。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述掩膜板中，与各所述掩膜图案区域分别对应的对位标识为两组，分别设置在对应的所述掩膜图案区域的相对两个侧边位置。

本发明实施例还提供了一种曝光装置，包括：多个载置台，以及通过同一个通道与各所述载置台连接的遮光罩载物台；其中，各所述载置台分别对应放置一张上述掩膜板。