[发明专利]显示装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201710009520.2 申请日: 2017-01-06
公开(公告)号: CN106950767B 公开(公告)日: 2022-05-10
发明(设计)人: 郑壤镐;朴喆远 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1339;G02F1/1335;H01L27/12
代理公司: 北京钲霖知识产权代理有限公司 11722 代理人: 李英艳;冯志云
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示装置 及其 制造 方法
【说明书】:

发明提供显示装置及其制造方法。该显示装置包括:第一基板;在第一基板上的栅线,其中栅线在第一方向上延伸;在第一基板上的数据线,其中数据线在交叉第一方向的第二方向上延伸;薄膜晶体管,连接到栅线和数据线;钝化层,在栅线、数据线和薄膜晶体管上,其中钝化层包括凹入部分;光阻挡部分,在钝化层的凹入部分上;主柱间隔物,其从光阻挡部分向上突出;以及子柱间隔物,其从光阻挡部分向上突出,其中子柱间隔物与主柱间隔物间隔开。

技术领域

本发明的示例性实施方式涉及显示装置及其制造方法,更具体而言,涉及包括在钝化层的凹入部分处的光阻挡部分的显示装置及其制造方法。

背景技术

基于显示装置的光发射方案,显示装置被分为液晶显示(LCD)装置、有机发光二极管(OLED)显示装置、等离子体显示面板(PDP)装置、电泳显示(EPD)装置等。

在所述类型的显示装置当中,LCD装置包括彼此相对的两个基板、在这两个基板的至少之一上的电极以及在这两个基板之间的液晶层。

LCD装置典型地包括在这两个基板的其中之一上的多个薄膜晶体管和像素电极以及在这两个基板的另一个上的多个滤色器、光阻挡部分和公共电极。近来,已经研究了具有阵列上滤色器(COA)结构的显示装置,在其中除公共电极之外,滤色器、光阻挡部分、像素电极等形成在单一基板上。此外,已经研究了具有黑色柱间隔物结构的显示装置,在其中配置为保持这两个基板之间的单元间隙均一的柱间隔物与光阻挡部分一体形成以简化工艺。

将理解,技术背景部分旨在提供用于理解此处公开的技术的有用背景并因此在此处被公开,因而,技术背景部分可以包括不是在此处公开的内容的相应有效申请日之前已经被相关领域的普通技术人员知道或了解的部分的概念、原理或认识。

发明内容

本发明的示例性实施方式针对一种包括在钝化层的凹入表面区域中的光阻挡部分的显示装置。

本发明的示例性实施方式针对一种在其中主柱间隔物和子柱间隔物与光阻挡部分一体形成为整体单元的显示装置。

另外,本发明的示例性实施方式针对一种显示装置以及制造该显示装置的方法,在该显示装置中,光阻挡部分具有高精确的图案,其厚度容易确保,并且容易提供主柱间隔物和子柱间隔物之间的高度差。

根据本发明的一示例性实施方式,一种显示装置包括:第一基板;在第一基板上的栅线,其中栅线在第一方向上延伸;在第一基板上的数据线,其中数据线在交叉第一方向的第二方向上延伸;薄膜晶体管,连接到栅线和数据线;钝化层,在栅线、数据线和薄膜晶体管上,其中钝化层包括凹入部分;光阻挡部分,在钝化层的凹入部分上;主柱间隔物,其在第三方向上从光阻挡部分突出,其中第三方向垂直于第一和第二方向;以及子柱间隔物,其在第三方向上从光阻挡部分突出,其中子柱间隔物与主柱间隔物间隔开。

在一示例性实施方式中,主柱间隔物可以具有相对于光阻挡部分的表面的大于子柱间隔物的高度的高度。

在一示例性实施方式中,光阻挡部分、主柱间隔物和子柱间隔物可以包括彼此相同的材料。

在一示例性实施方式中,凹入部分可以具有在光阻挡部分的厚度的大约百分之10(%)至大约200%的范围内的深度。

在一示例性实施方式中,光阻挡部分可以具有在大约0.5微米(μm)至大约2.5μm的范围内的厚度。

在一示例性实施方式中,凹入部分的至少一部分可以交叠栅线和数据线的至少之一。

在一示例性实施方式中,主柱间隔物和子柱间隔物的至少之一可以交叠薄膜晶体管。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710009520.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top