[发明专利]清洗装置

说明书

技术领域

本发明涉及向清洗对象物的清洗面供给清洗液而对清洗面进行清洗的清洗装置，涉及提高清洗液的清洗效果的技术。

背景技术

以往，公知有如下的清洗装置：向清洗对象物的清洗面供给清洗液而对清洗面进行清洗。这样的清洗装置例如在半导体、液晶面板等平板显示器的制造工序中在将抗蚀剂剥离(溶解)的处理中使用(例如参照专利文献1)。

以往，在将抗蚀剂剥离(溶解)的处理中，使用药液作为清洗水，但近年来，从对环境的影响等观点出发，要求降低药液的使用量，开始使用臭氧来取而代之。臭氧具有将有机物溶解的能力，能够将作为有机物的抗蚀剂去除。通常情况下，使臭氧溶解于纯水等而作为臭氧水供给至基板。然而，由于臭氧不溶入高温状态(例如，在大气压下为60℃以上)的纯水，因此准备高浓度且高温的臭氧水是非常困难的。因此，在以往的清洗装置中，通常在常温下使用作为清洗液的臭氧水。

专利文献1：日本特开平4-179225号公报

然而，近年来，多数情况下使用被注入了高浓度离子的抗蚀剂，在以往的清洗装置中，将这样的抗蚀剂剥离是很困难的。并且，近年来，为了提高吞吐量而要求抗蚀剂的去除速率的进一步的提高。因此，要求清洗装置的清洗效果的进一步的提高，例如优选清洗液(臭氧水)的反应速度较快的高温下的清洗处理(抗蚀剂剥离处理)的实现。

发明内容

本发明是鉴于上述的课题而完成的，其目的在于，提供能够通过高温的清洗液来提高清洗效果的清洗装置。

用于解决课题的手段

本发明的清洗装置具有：加热单元，其对清洗对象物的清洗面进行加热；清洗单元，其向所述清洗对象物的清洗面供给清洗液而对所述清洗面进行清洗；以及控制单元，其对所述清洗面的加热和所述清洗液的供给进行控制，以使得在对所述清洗面进行了加热之后对所述清洗面进行清洗。

根据该结构，通过控制单元对清洗面的加热和清洗液的供给进行控制，在通过加热单元对清洗面进行了加热之后，通过清洗单元对清洗面进行清洗。由此，通过加热后的清洗面对供给至清洗面的清洗液进行加热，通过高温的清洗液来提高清洗效果。

并且，在本发明的清洗装置中，也可以是，所述清洗液是通过使规定的物质溶解于溶剂而形成的，所述清洗单元以比所述物质不溶解于所述溶剂的临界温度低的温度将所述清洗液供给至所述清洗面，所述加热单元将所述清洗面加热到比所述临界温度高的温度。

根据该结构，通过加热单元将清洗面加热到比临界温度(物质不溶解于溶剂的温度)高的温度。清洗液虽然被清洗单元以比临界温度低的温度供给至清洗面，但在供给至清洗面之后，由加热后的清洗面加热到比临界温度高的温度。这样，通过加热后的清洗面将供给至清洗面的清洗液加热到比临界温度高的温度，能够得到通常情况下(比临界温度低的温度的清洗液)无法得到的较高的清洗效果。

并且，也可以是，本发明的清洗装置具有流体帘单元，该流体帘单元产生对所述清洗面的周围进行覆盖的流体帘。

根据该结构，通过流体帘对清洗面的周围进行覆盖，能够防止供给至清洗面的清洗液等逸出到清洗面的周围，提高清洗液的清洗效果。

并且，也可以是，本发明的清洗装置具有：臂部件，其设置有所述加热单元和所述清洗单元；以及驱动单元，其使所述臂部件摆动或者平行移动，以使得所述加热单元和所述清洗单元在所述清洗面上往复运动。

根据该结构，通过驱动单元使臂部件摆动或者平行移动，设置于臂部件的加热单元和清洗单元一同在清洗面上往复运动。由此，对于清洗面的整体，能够在通过加热单元对清洗面进行加热之后，通过清洗单元对清洗面进行清洗。

并且，在本发明的清洗装置中，也可以是，所述驱动单元使所述臂部件摆动或者平行移动，以使得所述清洗单元在所述加热单元所移动的移动路线上移动。

根据该结构，通过驱动单元使臂部件摆动或者平行移动，清洗单元在加热单元所移动的移动路线上移动。通过以这种方式使清洗单元移动，而能够在通过加热单元对清洗面进行加热之后，通过清洗单元对清洗面进行清洗。

并且，在本发明的清洗装置中，也可以是，在所述清洗单元移动的移动路线上配置有所述加热单元。

根据该结构，在清洗单元移动的移动路线上配置有加热单元。通过以这种方式配置加热单元，而能够在通过加热单元对清洗面进行加热之后，通过清洗单元对清洗面进行清洗。

发明效果

根据本发明，能够通过加热后的清洗面对供给至清洗面的清洗液进行加热，能够通过高温的清洗液来提高清洗效果。

附图说明