[发明专利]一种彩膜基板、其制作方法、液晶显示器及显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种彩膜基板、其制作方法、液晶显示器及显示装置。

背景技术

液晶显示器一般包括相对设置的彩膜基板和阵列基板，以及位于彩膜基板和阵列基板之间的液晶层。目前彩膜基板在制备时，如图1所示，一般先在衬底基板01上形成黑矩阵02的图形；接着在形成有黑矩阵02的图形的衬底基板01上形成包括蓝色B、绿色G和红色R的光阻层03；然后在形成有黑矩阵02和光阻层03的衬底基板01上形成平坦化层05。

但是，由于目前平坦化层是通过狭缝式涂布的方法形成的，制备时平坦化层的粘度较高，因此在黑矩阵层和光阻层的交叠处会出现凹凸不平的现象，从而导致平坦化层的表面凹凸不平，不利于后续PI定向夜的扩散及液晶取向，进而影响液晶显示器的品质。

发明内容

本发明实施例提供一种彩膜基板、其制作方法、液晶显示器及显示装置，用以提高显示区域的平坦化层的表面的平坦性。

因此，本发明实施例提供了一种彩膜基板的制作方法，包括：

在衬底基板上形成黑矩阵的图形；

在形成有所述黑矩阵图形的所述衬底基板上形成多种颜色的光阻层的图形，以及在位于所述衬底基板边缘区域的所述黑矩阵的上方形成阻挡墙的图形；其中，所述阻挡墙的上表面距离所述衬底基板的上表面的距离大于所述光阻层的上表面距离所述衬底基板的上表面的距离；

采用滴注法在所述阻挡墙限定的区域内形成覆盖所述黑矩阵层和所述光阻层的平坦化层。

较佳地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，采用滴注法在所述阻挡墙限定的区域内形成覆盖所述黑矩阵层和所述光阻层的平坦化层，具体包括：

采用滴注法将粘度为1.9－2.9毫帕·秒的平坦化层材料滴在所述阻挡墙限定的区域内。

较佳地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，所述阻挡墙的材料与多种颜色的所述光阻层中的其中一种所述光阻层的材料相同。

较佳地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，所述阻挡墙的材料与靠近所述阻挡墙的所述光阻层的材料相同。

较佳地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，通过一次构图工艺形成所述阻挡墙的图形与其中一种所述光阻层的图形。

较佳地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，在形成覆盖所述黑矩阵层和所述光阻层的平坦化层之后，还包括：对所述衬底基板进行高频低幅振动处理。

较佳地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板的制作方法中，对所述衬底基板进行高频低幅振动处理之后，还包括：对所述平坦化层进行高温固化处理。

相应地，本发明实施例还提供了一种彩膜基板，包括衬底基板，位于所述衬底基板上的黑矩阵和多种颜色的光阻层，还包括：位于所述衬底基板的边缘区域且位于所述黑矩阵上方的阻挡墙，以及位于所述阻挡墙限定的区域内、且覆盖所述黑矩阵和所述光阻层、且采用滴注法形成的平坦化层；其中，所述阻挡墙的上表面距离所述衬底基板的上表面的距离大于所述光阻层的上表面距离所述衬底基板的上表面的距离。

较佳地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，所述阻挡墙的材料与多种颜色的所述光阻层中的其中一种所述光阻层的材料相同。

较佳地，在本发明实施例提供的上述彩膜基板中，所述阻挡墙的材料与靠近所述阻挡墙的所述光阻层的材料相同。

相应地，本发明实施例还提供了一种液晶显示器，包括本发明实施例提供的上述任一种彩膜基板。

相应地，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述液晶显示器。

本发明实施例提供的彩膜基板、其制作方法、液晶显示器及显示装置，通过在位于衬底基板边缘区域的黑矩阵的上方形成上表面距离衬底基板的上表面的距离大于光阻层的上表面距离衬底基板的上表面的距离的阻挡墙的图形，并且采用滴注法在阻挡墙限定的区域内形成覆盖黑矩阵层和光阻层的平坦化层，由于采用滴注法形成平坦化层时材料的粘度较低，因此可以保证该材料在阻挡墙限定的区域内充分流动，从而可以使显示区域中的平坦化层的表面分布均匀，进而可以提高彩膜基板的显示区域中的平坦化层表面的平坦性。因此将该彩膜基板应用于液晶显示器时，可以提高液晶显示器的显示均一性，进而提高液晶显示器的品质。

附图说明

图1为现有的彩膜基板的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的彩膜基板的制作方法的流程图；

图3a至图3e分别为本发明实施例提供的制作方法在执行各步骤后的剖面结构示意图。