[发明专利]一种TFT玻璃蚀刻预处理液

说明书

一种TFT玻璃蚀刻预处理液，其特征在于所述预处理液由以下组分组成：质量百分比含量10～20％的盐酸；质量百分比含量2％～5％的氢氟酸；质量百分比含量5～10％的聚乙二醇6000；质量百分比含量0.5～1％的聚二甲基硅氧烷及余量的水。

技术领域

本发明涉及用于TFT玻璃基板蚀刻预处理的组合物。

背景技术

TFT(Thin Film Transistor，薄膜晶体管)显示屏是液晶显示屏的一种，其主要结构为包括在两层玻璃基板之间的液晶材料。市场需求的TFT显示屏越来越朝超薄方向发展，在制作超薄TFT显示屏使需要的玻璃基板厚度更薄，需要对现有规格玻璃基板进行薄化处理，现有技术中多采用含有氢氟酸的蚀刻液进行薄化处理，在薄化处理后玻璃基板表明往往会出现局部过蚀产生的凹坑，需要再对基板表明进行长时间的抛光处理，严重影响了生产效率，提高了加工成本。为了减少薄化处理出现的凹坑，除了在以氢氟酸为基础的蚀刻液中加入助剂外，还可以采用在薄化处理前对TFT液晶屏的玻璃基板(简称TFT玻璃)进行预处理的方法，中国专利CN 103951270B公开了一种对TFT玻璃进行薄化预处理的方法，采用90-95％、3-5％、2-5％的浓硫酸、浓盐酸以及氢氟酸的混合酸液；对TFT玻璃基板进行预处理。该方法虽然可以实现一定的减少薄化后玻璃基板凹坑的效果，但预处理的混合酸中加入了大量的浓硫酸，预处理工序后产生的废液难于进行处理。因此提供一种新的TFT玻璃蚀刻预处理液，在提高处理效果的基础上降低污染排放，成为现有技术中亟待解决的问题。

发明内容

为解决前述技术问题，本发明提供了一种TFT玻璃蚀刻预处理液及其处理工艺，通过优化预处理液的处方和处理工艺，成功的实现了避免了浓硫酸等造成严重污染且难于处理的原材料的使用。

本发明提供了一种TFT玻璃蚀刻预处理液，其特征在于所述预处理液由以下组分组成：

质量百分比含量10～20％的盐酸(HCl)；

质量百分比含量2％～5％的氢氟酸(HF)；

质量百分比含量5～10％的聚乙二醇6000(PFG6000)；

质量百分比含量0.5～1％的聚二甲基硅氧烷及余量的水。

所述的预处理液，其特征是采用如下方法配制：

1)将处方量盐酸与氢氟酸混合，并加入适量水稀释；

2)将处方量的PEG6000、聚二甲基硅氧烷溶于适量水中至完全溶解；

3)将步骤1)得到的混合液缓慢加入步骤2)的混合液中，补足处方量的水持续搅拌至成为均一溶液。

在研究中我们发现，当采用本发明提供的TFT玻璃蚀刻预处理液对TFT玻璃基板按照本发明提供的工艺进行预处理后，可以显著降低蚀刻工艺后基板表面的凹坑，大大减少再研磨工序的时间，且本发明提供的预处理组合物，意外的提高了玻璃基板对CF面的处理效果，使得TFT面和CF面能够采用同样的研磨工艺，即降低了对薄化后玻璃基板的整体研磨时间，又提高了生产单位在生产组织时的灵活性，进一步提高了预处理效果。且本发明提供的预处理液，改变了现有技术中以浓硫酸为基础的预处理液的配方，大大减少了预处理后废液的处理难度，降低了污染排放和污染物处理成本。

具体实施方式

本发明提供的用于一种TFT玻璃蚀刻预处理液，以如下方法配制，

1)将处方量盐酸与氢氟酸混合，并加入适量水稀释

2)将处方量的PEG6000、聚二甲基硅氧烷溶于适量水中至完全溶解；

3)将步骤1)得到的混合液缓慢加入步骤2)的混合液中，补足处方量的水持续搅拌至成为均一溶液。

实施例1～4的配方见下表(质量百分比wt％)