[发明专利]同质双层SiO2与聚四氟乙烯复合的自清洁减反膜及制备方法有效
| 申请号： | 201710013416.0 | 申请日： | 2017-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN106526719B | 公开（公告）日： | 2018-06-15 |
| 发明（设计）人： | 张政军;乐雅;淮晓晨 | 申请（专利权）人： | 清华大学 |
| 主分类号： | G02B1/18 | 分类号： | G02B1/18;G02B1/115 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 邸更岩 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区1*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 聚四氟乙烯 纳米棒 复合薄膜 自清洁 制备 多孔二氧化硅 致密二氧化硅 增透作用 复合 同质 复合聚四氟乙烯 电子束蒸镀 氧化硅薄膜 可见光 太阳能电池 光记录器 光学器件 光子器件 热稳定性 应用要求 半透明 滤色器 入射光 疏水性 折射率 基底 三层 增透 粘附 沉积 递减 透明 | ||
【权利要求书】：
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