[发明专利]一种X射线成像器件的瞄准装置及其调校方法和应用方法

权利要求书

1.一种X射线成像器件的瞄准装置，其特征在于，所述的瞄准装置包括X射线成像器件（2）、瞄准透镜（3）、可调光阑（4）、支撑机构（5）、四维调节机构（6）和监视器（7）；所述的支撑机构（5）为水平放置的圆筒，瞄准透镜（3）竖直卡在圆筒中，X射线成像器件（2）位于瞄准透镜（3）的中心；所述的可调光阑（4）为圆环形，放置在瞄准透镜（3）前端，并与支撑机构（5）固连；所述的支撑机构（5）与四维调节机构（6）连接，四维调节机构（6）通过支撑机构（5）调节瞄准透镜（3）的位置和瞄准透镜（3）的光学指向；所述的瞄准透镜（3）的中心、可调光阑（4）的中心、支撑机构（5）的中心和四维调节机构（6）的中心在同一条直线上；靶（1）发射的可见光线通过打开状态的可调光阑（4）入射至瞄准透镜（3），在探测器记录面（8）上成像为像Ⅰ；靶（1）发射的X射线通过关闭状态的可调光阑（4）入射至X射线成像器件（2），在探测器记录面（8）上成像为像Ⅱ；像Ⅰ和像Ⅱ在探测器记录面（8）上重合；所述的监视器（7）实时监视像Ⅰ在探测器记录面（8）上的位置；所述的瞄准透镜（3）为可见光透过率大于70%的玻璃，包括石英玻璃、有机玻璃或K9玻璃中的一种。

2.根据权利要求1所述的X射线成像器件的瞄准装置，其特征在于，

所述的靶（1）为惯性约束聚变ICF使用的平面靶、球靶、腔靶或异形靶中的一种。

3.根据权利要求1所述的X射线成像器件的瞄准装置，其特征在于，

所述的X射线成像器件（2）为惯性约束聚变ICF中用于X射线成像的狭缝、狭缝阵列、针孔、针孔阵列、异形孔或异形孔阵列中的一种。

4.根据权利要求1所述的X射线成像器件的瞄准装置，其特征在于，

所述的瞄准透镜（3）与X射线成像器件（2）的成像物距、像距相同，像距和物距满足透镜成像公式，瞄准透镜（3）的主光轴与X射线成像器件（2）中心的垂直距离小于等于150um。

5.根据权利要求1所述的X射线成像器件的瞄准装置，其特征在于，

所述的瞄准透镜（3）的开孔尺寸大于X射线成像器件（2）的边界尺寸；所述的可调光阑（4）在关闭状态下，限光孔径大于靶（1）尺寸，并且小于X射线成像器件（2）边界尺寸。

6.根据权利要求1所述的X射线成像器件的瞄准装置，其特征在于，

所述的四维调节机构（6）调节支撑机构（5）在垂直于支撑机构（5）的轴线的平面上进行基于平面的X轴和Y轴的平面位移，和基于平面的X轴和Y轴的翻转。

7.一种X射线成像器件的瞄准装置的调校方法，其特征在于，包括以下步骤：

8a.将装调用靶（9）放置在靶（1）的位置上，将激光经纬仪（10）沿支撑机构（5）的中心线放置在支撑机构（5）的后面；

8b.利用激光经纬仪（10）作基准，将装调用靶（9）的标识中心、X射线成像器件（2）的中心和探测器记录面（8）的中心调整在直线Ⅰ上；

8c.用可见光源（11）照射装调用靶（9），反复调节四维调节机构（6），直至瞄准透镜（3）对装调用靶（9）的标识中心所成的可见光像与探测器记录面（8）的中心重合，且X射线成像器件（2）的中心仍在直线Ⅰ上。

8.根据权利要求7所述的X射线成像器件的瞄准装置的调校方法，其特征在于，

所述的装调用靶（9）的标识中心的尺寸小于或等于X射线成像器件（2）的狭缝或孔的尺寸。

9.一种X射线成像器件的瞄准装置的应用方法，其特征在于，

包括以下步骤：

10a.打开可调光阑（4）；

10b.用可见光源（11）照亮靶（1）；

10c.用监视器（7）实时监视像Ⅰ，通过调整包括所述的瞄准装置和探测器记录面（8）在内的整个探测系统指向，改变像Ⅰ在探测器记录面（8）上的位置，直至像Ⅰ的中心点与探测器记录面（8）的中心点重合，完成实时瞄准；

10d.关闭可调光阑（4）；

10e.用激光入射至靶（1）上，靶（1）发射出X射线，X射线通过关闭状态的可调光阑（4）入射至X射线成像器件（2），在探测器记录面（8）上成像为像Ⅱ，像Ⅰ和像Ⅱ在探测器记录面（8）上重合，完成X射线成像器件的瞄准装置的应用。