[发明专利]大行程光栅刻划机及其刀具总成

权利要求书

1.一种大行程光栅刻划机的刀具总成，包括用于连接刻划移动装置并能够沿刻划方向移动的刀架底座(6)，其特征在于，所述刀架底座(6)下方安装有多个垂直向下的刻刀，多个所述刻刀沿步进方向依次均匀排布；

所述刀架底座(6)包括沿步进方向延伸的刀架导轨(7)、安装于所述刀架导轨(7)并能够沿所述刀架导轨(7)延伸方向移动的调节板(10)和用于驱动所述调节板(10)的调节驱动装置，多个所述刻刀安装于调节板(10)；

多个所述刻刀上部分别连接有多个安装架，所述调节板(10)上设置有沿步进方向延伸的滑槽(11)，多个所述安装架安装于所述滑槽(11)，并能够沿所述滑槽(11)延伸方向移动，所述安装架顶部设置有用于固定所述安装架位置的连接元件(12)。

2.根据权利要求1所述的刀具总成，其特征在于，所述调节板(10)上对称设置有两个所述滑槽(11)，所述安装架上部的两端均设置有所述连接元件(12)。

3.根据权利要求2所述的刀具总成，其特征在于，所述调节驱动装置包括压电陶瓷(8)和柔性铰链(9)，所述压电陶瓷(8)的一端连接所述刀架底座(6)，所述压电陶瓷(8)的另一端连接所述柔性铰链(9)的一端，所述柔性铰链(9)的另一端连接所述调节板(10)。

4.根据权利要求3所述的刀具总成，其特征在于，所述连接元件(12)具体为拧紧螺栓。

5.根据权利要求1所述的刀具总成，其特征在于，包括两个所述刻刀。

6.根据权利要求1至4任意一项所述的刀具总成，其特征在于，还包括用于检测刻槽位置偏差量的检测装置。

7.根据权利要求6所述的刀具总成，其特征在于，所述检测装置包括沿步进方向依次设置的干涉计(16)、参考反射镜(15)和测量反射镜(17)，所述干涉计(16)分别与所述参考反射镜(15)和所述测量反射镜(17)相对，所述刻刀设置于所述干涉计(16)和所述参考反射镜(15)之间，所述干涉计(16)固定安装于所述刀架底座(6)，所述参考反射镜(15)固定安装于所述调节板(10)，所述测量反射镜(17)固定安装于所述大行程光栅刻划机的步进工作台(2)。

8.一种大行程光栅刻划机，包括刻划移动装置以及安装于所述刻划移动装置的刀架，其特征在于，所述刀具总成具体为权利要求1至7任意一项所述的刀具总成。