[发明专利]一种宽带红外吸波结构材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201710018222.X 申请日: 2017-01-10
公开(公告)号: CN106896433B 公开(公告)日: 2019-06-21
发明(设计)人: 周佩珩;陈起;甄国帅;陈万里;谢建良;邓龙江;陆海鹏 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G02B5/00 分类号: G02B5/00
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 李明光
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 宽带 红外 结构 材料 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种宽带红外吸波结构材料,其特征在于,由下至上包括Al金属层、Al金属层上面的金属纳米线阵列以及每个纳米线上层的球形纳米线头;所述Al金属层的厚度大于等于5mm;所述纳米线直径为40~90nm;每个纳米线与相邻最近的纳米线的几何中心距为90~110nm;纳米线长度为400~1000nm,纳米线头的直径为100~300nm,相邻的n个纳米线的纳米线头相连接。

2.如权利要求1所述的宽带红外吸波结构材料,其特征在于,相邻的n个纳米线的纳米线头相连接;1≤n≤6。

3.如权利要求1或2所述的宽带红外吸波结构材料,其特征在于,金属纳米线及纳米线头采用的材料为银、金、锌、钴、铂或镍。

4.如权利要求1所述宽带红外吸波结构材料的制备方法,包括如下步骤:

1)在单通多孔氧化铝模板上生长一层金属薄膜;单通多孔氧化铝模板的底层金属Al的厚度大于等于5mm,单通多孔氧化模板上的纳米孔的孔径为40~90nm,孔间距为90~110nm、孔深度为400~1000nm;金属薄膜生长的厚度高于纳米孔深度100~300nm;

2)将生长完金属薄膜的单通多孔氧化铝模板置于质量浓度为5%~15%的磷酸溶液中浸泡0.5h~2h后用去离子水冲洗3~5分钟,将冲洗后的样品吹干水分,得到目标宽带红外吸波结构材料。

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