[发明专利]触控基板及其制作方法、触控显示装置

权利要求书

1.一种触控基板，包括形成在一基底上的多个触控电极，所述触控电极包括靠近触控基板的第一侧的表面、与所述表面相对的底面，以及位于所述表面和底面之间的侧面，其特征在于，所述触控电极的侧面由至少一个子侧面组成，所述至少一个子侧面能够反射从所述触控基板的第一侧入射的光线，且反射光线在位于第一侧的不同照射区域之间的光线强度差值小于设定值。

2.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述至少一个子侧面向不完全相同的方向反射从所述触控基板的第一侧入射的光线。

3.根据权利要求2所述的触控基板，其特征在于，所述触控电极的侧面为阶梯结构，相邻两个子侧面向不同方向反射从触控基板的第一侧入射的光线。

4.根据权利要求3所述的触控基板，其特征在于，所述子侧面为凹面，用于汇聚从第一侧入射的光线。

5.根据权利要求3所述的触控基板，其特征在于，所述子侧面为平面，所述触控电极的侧面包括至少两个与基底垂直的第一子侧面和至少一个与基底平行的第二子侧面。

6.根据权利要求3所述的触控基板，其特征在于，所述阶梯结构从所述触控电极的底面延伸至表面。

7.根据权利要求2所述的触控基板，其特征在于，所述触控电极的整个侧面为一凸面，用于分散从第一侧入射的光线。

8.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述触控电极的整个侧面为与基底垂直的平面。

9.一种触控显示装置，包括显示面板和设置在所述显示面板的显示侧的触控基板，其特征在于，所述触控基板采用权利要求1-8任一项所述的触控基板，所述触控基板的第一侧为靠近显示侧的一侧。

10.一种权利要求1-8任一项所述的触控基板的制作方法，包括在一基底上形成多个触控电极的步骤，其特征在于，所述触控电极由至少两层层叠设置的子膜层组成，形成触控电极的步骤包括形成相邻两层层叠设置的第一子膜层和第二子膜层，所述形成相邻两层层叠设置的第一子膜层和第二子膜层的步骤包括：

在所述基底上形成第一导电薄膜，对第一导电薄膜进行第一次刻蚀工艺，形成所述触控电极的第一子膜层；

在所述第一子膜层上形成第二导电薄膜，对第二导电薄膜进行第二次刻蚀工艺，形成所述触控电极的第二子膜层，所述第一子膜层与第二子膜层的位置一一对应，且所述第一子膜层在所述基底上的正投影完全位于所述第二子膜层在所述基底上的正投影内，所述第二子膜层的侧面包括不与基底相交的第一部分，所述第一部分与所述第一子膜层的侧面的形状配合。

11.根据权利要求10所述的制作方法，其特征在于，所述第一次刻蚀工艺和第二次刻蚀工艺采用激光刻蚀工艺，使形成的触控电极的侧面为阶梯结构，包括至少两个与基底垂直的第一子侧面和至少一个与基底平行的第二子侧面。

12.根据权利要求10所述的制作方法，其特征在于，所述第一次刻蚀工艺和第二次刻蚀工艺采用等离子体刻蚀工艺，使形成的触控电极的侧面由至少一个子侧面组成，所述子侧面为凹面或凸面。