[发明专利]透射型X射线靶和包括该透射型X射线靶的放射线产生管

权利要求书

1.一种透射型X射线靶，包括：

平板形金刚石基板，所述平板形金刚石基板具有第一表面和与第一表面相对的第二表面；

靶层，所述靶层位于第一表面上，并被配置为通过用电子束照射所述靶层来产生X射线；以及

电极，所述电极被设置在金刚石基板上，从靶层的端部延伸到金刚石基板的端部，所述靶层的端部与所述金刚石基板的端部远离，

其中，第一表面的残留应力低于第二表面的残留应力，并且

其中，所述电极包括具有负的碳化物标准生成自由能的金属元素。

2.根据权利要求1所述的透射型X射线靶，

其中，在残留应力的分布存在于第一表面和第二表面中的每个上的情况下，当且仅当第一表面的最大残留应力低于第二表面的最大残留应力时，第一表面的残留应力才低于第二表面的残留应力。

3.根据权利要求1所述的透射型X射线靶，

其中，第一表面与所述金刚石基板的侧面之间的角度是钝角。

4.根据权利要求1所述的透射型X射线靶，

其中，所述金刚石基板是单晶金刚石。

5.根据权利要求1所述的透射型X射线靶，

其中，所述金刚石基板是通过从由单晶制成的基材分离所述基材的一部分而制成的。

6.根据权利要求5所述的透射型X射线靶，

其中，所述金刚石基板是通过局部加热光的照射将所述基材的一部分从所述基材分离而制成的。

7.根据权利要求1所述的透射型X射线靶，

其中，所述靶层的层厚度在1μm至20μm的范围内。

8.根据权利要求1所述的透射型X射线靶，

其中，所述电极包括钛、锆和铬中的至少任一种。

9.根据权利要求1所述的透射型X射线靶，

其中，所述电极的层厚度在100nm至10μm的范围内。