[发明专利]显示装置有效
申请号: | 201710019817.7 | 申请日: | 2017-01-11 |
公开(公告)号: | CN106960861B | 公开(公告)日: | 2022-03-04 |
发明(设计)人: | 金成国 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 刘灿强;陈晓博 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示装置 | ||
1.一种显示装置,所述显示装置包括:
基底,包括显示区域和与所述显示区域相邻的外围区域;
多个显示元件,设置在所述显示区域中;以及
绝缘层,设置在所述显示区域和所述外围区域中,其中,所述绝缘层具有设置在所述基底的所述外围区域中的非连续区域,
其中,所述基底具有外边界,所述外边界的一部分朝向所述显示区域缩进,其中,所述非连续区域设置在所述外边界的缩进部分和所述显示区域之间。
2.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述缩进部分的横截面具有半圆形状,所述横截面与所述基底平行。
3.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述外边界具有非缩进部分,其中,所述非连续区域沿与所述基底的所述外边界的所述非缩进部分平行的方向延伸。
4.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述绝缘层包括具有第一非连续区域的第一绝缘层和具有第二非连续区域的第二绝缘层,其中,所述非连续区域包括在所述显示装置的深度维度上所述第一非连续区域和所述第二非连续区域彼此叠置的叠置部分。
5.根据权利要求4所述的显示装置,其中,所述第一绝缘层的所述第一非连续区域的侧表面和所述第二绝缘层的所述第二非连续区域的侧表面形成连续表面。
6.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述绝缘层在其最接近所述非连续区域的部分处直接接触所述基底的上表面。
7.根据权利要求1所述的显示装置,所述显示装置还包括:
虚设焊盘,包括设置在所述基底的上方并在一个方向上延伸的部分。
8.根据权利要求7所述的显示装置,其中,所述虚设焊盘包括非连续部分。
9.根据权利要求8所述的显示装置,其中,所述虚设焊盘的所述非连续部分在所述显示装置的深度维度上与所述非连续区域至少部分地叠置。
10.根据权利要求7所述的显示装置,所述显示装置还包括:
附加绝缘层,包括附加非连续区域并覆盖所述虚设焊盘。
11.根据权利要求10所述的显示装置,其中,所述附加非连续区域在所述显示装置的深度维度上与所述非连续区域至少部分地叠置。
12.根据权利要求10所述的显示装置,其中,所述绝缘层的所述非连续区域的侧表面与所述附加绝缘层的所述附加非连续区域的侧表面形成连续表面。
13.根据权利要求10所述的显示装置,其中,所述虚设焊盘包括非连续部分,其中,所述附加非连续区域在所述显示装置的深度维度上与所述非连续区域和所述非连续部分叠置。
14.根据权利要求13所述的显示装置,其中,所述绝缘层的所述非连续区域的侧表面、所述虚设焊盘的所述非连续部分的侧表面以及所述附加绝缘层的所述附加非连续区域的侧表面在所述非连续区域、所述非连续部分和所述附加非连续区域彼此叠置的叠置部分处形成连续表面。
15.根据权利要求1所述的显示装置,其中,所述绝缘层由无机材料形成。
16.根据权利要求1所述的显示装置,所述显示装置还包括覆盖所述绝缘层的所述非连续区域的保护层。
17.根据权利要求16所述的显示装置,所述显示装置还包括:
像素限定膜,覆盖所述多个显示元件的每个像素电极的边界,
其中,所述保护层由与所述像素限定膜相同的材料形成。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的