[发明专利]一种三维环磁偶极器件及制备方法在审
申请号: | 201710025562.5 | 申请日: | 2017-01-13 |
公开(公告)号: | CN106785294A | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 刘哲;李俊杰;顾长志;杜硕 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | H01P7/10 | 分类号: | H01P7/10;H01P11/00 |
代理公司: | 北京智汇东方知识产权代理事务所(普通合伙)11391 | 代理人: | 范晓斌,薛峰 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 三维 环磁偶极 器件 制备 方法 | ||
1.一种三维环磁偶极器件,由多个结构单元阵列形成,每一结构单元包括:
自支撑绝缘介质薄膜,用于作为支撑基础;
悬空部,由所述自支撑绝缘介质薄膜切割折叠而成,数量为偶数且不少于四个,固定于所述自支撑绝缘介质薄膜的同一侧面,对应的悬空部与所述自支撑绝缘介质薄膜之间形成角度;和
金属开口谐振环,数量与所述悬空部的数量相等,一一对应的设置于悬空部的侧表面,用于束缚磁场,产生磁偶极,所述磁偶极首尾相连形成一个闭合环路,所述闭合环路用于实现环磁偶极共振。
2.根据权利要求1所述的三维环磁偶极器件,其特征在于,所述闭合环路具有对称的两侧,位于所述闭合环路一侧的所述金属开口谐振环的开口向上,位于所述闭合环路的另一侧的所述金属开口谐振环的开口向下;
优选地,所述闭合环路呈圆环状;
优选地,所述金属开口谐振环均匀布置于所述闭合环路处。
3.根据权利要求1或2所述的三维环磁偶极器件,其特征在于,所述自支撑绝缘介质薄膜具有几何中心,所述闭合环路关于所述几何中心中心对称,每个金属开口谐振环设置于对应悬空部的同一侧表面处;
优选地,对应的悬空部与所述自支撑绝缘介质薄膜形成的角度为90°;
优选地,所述悬空部的数量为四个,以所述几何中心为中心呈十字形设置。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的三维环磁偶极器件,其特征在于,所述绝缘介质薄膜为氧化硅、氮化硅或氧化铝薄膜。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的三维环磁偶极器件,其特征在于,所述金属开口谐振环的形状为具有开口的方形环或圆形环。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的三维环磁偶极器件,其特征在于,所述金属开口谐振环的材料为金、银或铝中的一种。
7.一种应用于权利要求1~6中任一项所述三维环磁偶极器件的制备方法,包括:
在自支撑绝缘介质薄膜上制备金属开口谐振环阵列;
在所述自支撑绝缘介质薄膜表面沉积导电金属层;
沿所述金属开口谐振环图形外缘进行切割,将所述自支撑绝缘介质薄膜分成悬空部和支撑部,每一悬空部与对应的支撑部具有一个连接边,利用折叠工艺对所述连接边进行折叠,使得对应的悬空部垂直于所述支撑部,获得器件样品;
将所述器件样品置于腐蚀溶液中,去除所述器件样品表面的所述导电金属层,获得三维环磁偶极器件。
8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述切割通过刻蚀工艺实现,所述刻蚀工艺包括聚焦离子束刻蚀、曝光并结合等离子体刻蚀或激光烧蚀。
9.根据权利要求7或8所述的制备方法,其特征在于,所述折叠工艺为聚焦离子束辐照产生形变。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院物理研究所,未经中国科学院物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710025562.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:具有改进的色值的红色氧化铁颜料
- 下一篇:微带隔离器粘接夹具