[发明专利]用于制备响应紫外可见光的光敏电阻的光敏材料

权利要求书

1.用于制备响应紫外可见光的光敏电阻的光敏材料，其特征在于，所述光敏材料由紫外可见光响应光敏溶液喷涂在光敏电阻的陶瓷基体的表面形成，所述紫外可见光响应光敏溶液包括混合物和离子水，所述混合物由以下重量百分比的各组分组成：

CdSeS 35%-55%，CdSe 25%-45%，CdCl₂ 9%-29%，余量为CuCl₂；

将混合物溶解在离子水中得到紫外可见光响应光敏溶液，所述光敏溶液中混合物与离子水的质量百分比为，混合物20%-40%，离子水60%-80%。

2.根据权利要求1所述的用于制备响应紫外可见光的光敏电阻的光敏材料，其特征在于，所述混合物各组分的重量百分比CdSeS 45%，CdSe 35%， CdCl₂ 19%， CuCl₂ 1% ；

所述紫外可见光响应光敏溶液中混合物与离子水的质量百分比为，混合物30%，离子水70%。

3.响应紫外可见光的光敏电阻的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1：制备陶瓷基体；

步骤2：配置紫外可见光响应光敏溶液；

步骤3：将紫外可见光响应光敏溶液喷涂在陶瓷基体的表面，形成紫外可见光响应光敏材料层；

步骤4：将步骤3喷涂后的陶瓷基体静置10-30分钟后，放入500℃-700℃恒温烘箱中烘烤10-30分钟；

步骤5：将两个电极安装在步骤4形成的紫外可见光响应光敏材料层两端，得到紫外可见光响应光敏电阻主体；

步骤6：在紫外可见光响应光敏电阻主体表面喷涂隔离层，得到紫外可见光响应光敏电阻。

4.根据权利要求3所述的响应紫外可见光的光敏电阻的制备方法，其特征在于，步骤2中，所述紫外可见光响应光敏溶液，包括混合物和离子水，所述混合物由以下重量百分比的各组分组成：

CdSeS 35%-55%，CdSe 25%-45%，CdCl₂ 9%-29%，余量为CuCl₂；

将混合物溶解在离子水中得到紫外可见光响应光敏溶液，所述光敏溶液中混合物与离子水的质量百分比为，混合物20%-40%，离子水60%-80%。

5.根据权利要求3所述的响应紫外可见光的光敏电阻的制备方法，其特征在于，所述步骤4具体为，将步骤3喷涂后的陶瓷基体静置20分钟后，放入600℃恒温烘箱中烘烤20分钟。

6.根据权利要求3所述的响应紫外可见光的光敏电阻的制备方法，其特征在于，所述陶瓷基体由纯度为90%以上的三氧化二铝材料制成。

7.根据权利要求3所述的响应紫外可见光的光敏电阻的制备方法，其特征在于，步骤3具体为，将步骤S2所得的紫外可见光响应光敏溶液喷涂在陶瓷基体表面，喷涂5次，所述紫外可见光响应光敏电材料层厚度为6微米。

8.根据权利要求3所述的响应紫外可见光的光敏电阻的制备方法，其特征在于，步骤6具体为，利用环氧树脂在光敏电阻主体表面，形成隔离层，所述隔离层厚度为4微米。

9.根据权利要求4所述的响应紫外可见光的光敏电阻的制备方法，其特征在于,所述混合物各组分的重量百分比CdSeS 45%，CdSe 35%， CdCl₂ 19%， CuCl₂ 1% ；

所述紫外可见光响应光敏溶液中混合物与离子水的质量百分比为，混合物30%，离子水70%。