[发明专利]液体处理装置

权利要求书

1.一种液体处理装置，具备：

第1槽，储存液体的一部分和包含氮及氧的第1气体的一部分；

第2槽，储存所述第1气体的其他一部分和所述液体的其他一部分；

等离子体生成装置，具有第1电极以及第2电极，通过使所述第1电极与所述第2电极之间放电，从而生成与所述第2槽内的所述液体接触的等离子体；

气体供给装置，从所述第1槽向所述等离子体生成装置供给所述第1槽内的所述第1气体的第1部分；

第1流路，用于将所述第1气体的所述第1部分从所述第1槽引导至所述气体供给装置；

第2流路，用于将所述第1气体的所述第1部分从所述气体供给装置引导至所述等离子体生成装置；

第3流路，用于将所述第1槽内的所述液体的第1部分从所述第1槽引导至所述第2槽；

第4流路，用于将所述第2槽内的所述第1气体的一部分以及所述第2槽内的所述液体的一部分从所述第2槽引导至所述第1槽；以及

液体循环装置，使所述液体以所述第1槽、所述第3流路、所述第2槽、所述第4流路的顺序循环，

所述第2流路的下游端连接至所述第1电极以及所述第2电极中的一方的电极的根部，以使所述第1气体的所述第1部分覆盖该一方的电极。

2.如权利要求1所述的液体处理装置，还具备：

排气流路，用于从所述第1槽排出所述第1槽内的所述第1气体的第2部分；以及

第1过滤器，配置在所述排气流路上，从所述第1气体的所述第2部分中去除氮氧化物。

3.如权利要求2所述的液体处理装置，

所述排气流路从所述第1流路或所述第2流路分支。

4.如权利要求1所述的液体处理装置，

所述第1电极与所述第2电极配置于所述第1槽的内部。

5.如权利要求1至4中任一项所述的液体处理装置，还具备：

箱体，具有吸气口及吹出口，并收纳所述第1槽；

风扇，在所述箱体内生成从所述吸气口朝向所述吹出口的第2气体的气流；以及

第2过滤器，具有主面，所述主面与所述气流交叉，所述第2过滤器使所述第1槽内的所述液体与所述第2气体接触。

6.如权利要求1至4中任一项所述的液体处理装置，

所述等离子体生成装置构成为通过所述等离子体的生成来生成氮氧化物。