[发明专利]化学传感器及其制造方法在审
| 申请号： | 201710035079.5 | 申请日： | 2017-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN106645341A | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | 连健宏;萧夏彩;刘竹育 | 申请（专利权）人： | 友达光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N27/30 | 分类号： | G01N27/30 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司11006 | 代理人： | 梁挥,鲍俊萍 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学 传感器 及其 制造 方法 | ||
1.一种化学传感器，其具有一感测区，其特征在于，该化学传感器包含：
一基材，该基材具有一基材表面与至少一沟槽，该至少一沟槽位于该基材表面，且该至少一沟槽延伸至该感测区；
至少一电极，位于该至少一沟槽中，该至少一电极的厚度小于或等于该至少一沟槽的深度，且该至少一电极延伸至该感测区；以及
至少一反应层，覆盖位于该感测区的该至少一电极，该至少一反应层包含一反应材料与一磷酸盐缓冲材料，该磷酸盐缓冲材料的磷酸二氢根体积摩尔浓度为0.22M至0.28M，且该磷酸盐缓冲材料的pH值为7.0。
2.根据权利要求1所述的化学传感器，其特征在于，该反应材料覆盖该至少一电极，该磷酸盐缓冲材料覆盖该反应材料。
3.根据权利要求1所述的化学传感器，其特征在于，该磷酸盐缓冲材料覆盖该至少一电极，该反应材料覆盖该磷酸盐缓冲材料。
4.根据权利要求1所述的化学传感器，其特征在于，该反应材料与该磷酸盐缓冲材料彼此混合。
5.根据权利要求1所述的化学传感器，其特征在于，该至少一沟槽延伸并通过该感测区，且该至少一电极延伸并通过该感测区。
6.根据权利要求1所述的化学传感器，其特征在于，更包含一盖板与一绝缘层，该盖板位于该基材表面，该绝缘层位于该盖板与该基材之间。
7.一种化学传感器的制造方法，该化学传感器具有一感测区，其特征在于，该方法包含：
提供一基材；
形成至少一沟槽于该基材的一基材表面，并延伸至该感测区；
形成至少一电极于该至少一沟槽中，其中该至少一电极的厚度小于或等于该至少一沟槽的深度，且该至少一电极延伸至该感测区；以及
形成一反应层于该感测区内并覆盖该至少一电极，该反应层包含一反应材料与一磷酸盐缓冲材料，该磷酸盐缓冲材料的磷酸二氢根体积摩尔浓度为0.22M至0.28M，且该磷酸盐缓冲材料的pH值为7.0。
8.根据权利要求7所述的化学传感器的制造方法，其特征在于，形成该反应层于该感测区内并覆盖该至少一电极的步骤包含：
设置该反应材料于该感测区内并覆盖该至少一电极；以及
设置该磷酸盐缓冲材料于该感测区内并覆盖该反应材料。
9.根据权利要求7所述的化学传感器的制造方法，其特征在于，形成该反应层于该感测区内并覆盖该至少一电极的步骤包含：
设置该磷酸盐缓冲材料于该感测区内并覆盖该至少一电极；以及
设置该反应材料于该感测区内并覆盖该磷酸盐缓冲材料。
10.根据权利要求7所述的化学传感器的制造方法，其特征在于，形成该反应层于该感测区内并覆盖该至少一电极的步骤包含：
混合该反应材料与该磷酸盐缓冲材料以形成一混合物；以及
设置该混合物于该感测区内并覆盖该至少一电极。
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