[发明专利]一种抑制矩形膜受拉产生褶皱的结构设计方法有效

专利信息
申请号: 201710035784.5 申请日: 2017-01-19
公开(公告)号: CN106897491B 公开(公告)日: 2020-03-17
发明(设计)人: 李明;罗阳军;亢战;牛艳庄;赵腾飞 申请(专利权)人: 大连理工大学
主分类号: G06F30/23 分类号: G06F30/23;G06F30/13
代理公司: 大连理工大学专利中心 21200 代理人: 梅洪玉;侯明远
地址: 116024 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 抑制 矩形 膜受拉 产生 褶皱 结构设计 方法
【权利要求书】:

1.一种抑制矩形膜受拉产生褶皱的结构设计方法,其特征在于,步骤如下:

步骤S01:建立长细比大于1的矩形膜有限元模型,将长度方向的两边定义为自由边,宽度方向的两边定义为加载边;使用二维平面应力单元模拟矩形膜在承受沿长度方向1%拉伸应变时的应力状态,提取矩形膜的最小面内主应力的极小值;

步骤S02:建立矩形膜拓扑优化模型,将整体薄膜定义为设计域Ωdes,设计域Ωdes包括材料域Ωm和非材料域Ωvoid,并满足Ωm∪Ωvoid=Ωdes和关系;优化目标为矩形膜刚度最大化,并同时满足应力约束和面积约束,应力约束为步骤S01中提取的矩形膜的最小面内主应力的极小值大于零,面积约束为优化后结构面积小于许用面积,优化变量为各单元密度;

矩形膜拓扑优化模型的列式为

其中,W(u)为矩形膜结构刚度,t、u和v分别为作用于加载边界ΓT上的面力、位移场和许用虚位移;Uad为许用虚位移空间;a(u,v)和l(v)是能量双线性形式和载荷线性形式;min(σmin,x)>0为应力约束,其中min(σmin,x)为设计域Ωm中各单元x最小面内主应力的极小值,当此极小值大于零时,褶皱不会发生;为面积约束,A为设计域Ωm中材料域Ωdes的面积,A*为设计域Ωm中材料域Ωdes的许用面积;χ(x)∈{0,1}x∈Ωdes为表征设计域Ωm中材料域Ωm和非材料域Ωvoid的关系,当χ(x)=1代表当前单元为材料域Ωm,当χ(x)=0代表当前单元为非材料域Ωvoid

步骤S03:拓扑优化得到薄膜受拉无褶皱对应的最优构型,提取出优化构型中材料域的几何特征,并采用有限元仿真模拟计算,获得各几何特征使得薄膜拉伸无褶皱的临界值;

材料域的几何特征有三种方案:设定自由边形状为整体对称内凹曲线、减小加载边的长度和设定加载边形状为局部对称内凹曲线,对于优化膜结构的边界几何特征,采用上述三种方案中的一种或它们之间的任意组合。

2.根据权利要求1所述的结构设计方法,其特征在于,当采用设定自由边形状为整体对称内凹曲线时,该自由边采用半椭圆线整体对称内凹曲线,以矩形膜中心为椭圆线方程的原点,以拉伸载荷方向为x轴;使用半椭圆线方程x2/l2+(y-w)2/b12=1和x2/l2+(y+w)2/b12=1,其中,x2/l2+(y-w)2/b12=1的变量取值范围为w-b1≤y≤w,x2/l2+(y+w)2/b12=1的变量取值范围为-w≤y≤-w+b1,设定矩形薄膜结构上下自由边形状;其中l,w,b1分别为矩形膜的半宽、半长和半椭圆线的短轴长,当半椭圆线短轴长b1与矩形膜半宽w的比值大于3.7%,矩形膜受拉时不会产生褶皱。

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