[发明专利]一种双入射狭缝高分辨率成像光谱系统

权利要求书

1.一种双缝入射高分辨率成像光谱系统，包括双入射狭缝(1)、凹面反射主镜(2)、凸面反射光栅(3)、凹面反射次镜(4)、校正透镜(5)、滤光片(6)、面阵探测器(7)，其中凹面反射主镜(2)、凸面反射光栅(3)、凹面反射次镜(4)、校正透镜(5)构成分光子系统；滤光片(6)、面阵探测器(7)构成探测子系统，其特征在于：

系统光阑位于凸面反射光栅(3)上，来自目标的双条带型辐射信号经过前端望远镜系统后分别成像于视场光阑双狭缝(1)上，透过双狭缝的辐射能量经由凹面反射镜(2)，反射到凸面反射光栅(3)上，把不同波长的光分开，不同波长的光线在凸面反射光栅(3)反射出后，沿着不同的角度反射至凹面反射次镜(4)上，经由凹面反射次镜反射出，进入校正透镜(5)，最终经过滤光片(6)汇聚到面阵探测器(7)的不同位置；

所述的双入射狭缝(1)，对应两个不同视场；

所述的凹面反射主镜(2)、次镜(4)面型为球面；

所述的凸面反射光栅(3)的面型为球面；

所述的校正透镜(5)为弯月形透镜，材料为熔融石英。

2.根据权利要求1所述的一种双缝入射高分辨率成像光谱系统，其特征在于：所述的探测子系统中，滤波片(6)为一块来消除400nm～550nm处200nm～275nm的二级衍射光谱的马赛克滤波片；面阵探测器(7)的像元尺寸为12um，像元数为6K×6K。