[发明专利]一种用于锂电保护的开关器件及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201710038841.5 申请日: 2017-01-19
公开(公告)号: CN106847749B 公开(公告)日: 2020-04-03
发明(设计)人: 王凡 申请(专利权)人: 上海宝芯源功率半导体有限公司
主分类号: H01L21/8234 分类号: H01L21/8234;H01L27/088
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 罗泳文
地址: 201203 上海市*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 保护 开关 器件 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种用于锂电保护的开关器件的制作方法,其特征在于,所述制作方法包括步骤:

1)提供一P+型衬底,于所述P+型衬底表面形成P-型外延层,于所述P-型外延层中形成隔离沟槽;

2)定义体接触区域,于所述体接触区域中形成直至所述P+型衬底的第一沟槽,并于所述第一沟槽中填充绝缘介质,所述绝缘介质同时填充于所述隔离沟槽形成STI隔离区;

3)于所述P-型外延层中形成N型阱区;

4)于所述N型阱区中形成相隔排列的两个P型阱区;

5)制作出两个栅极结构,各栅极结构横跨于N型阱区及P型阱区之间,所述STI隔离区位于所述两个栅极结构之间;

6)于两个栅极结构之间形成N-型漂移区,所述N-型漂移区包围于所述STI隔离区;

7)于所述P型阱区中形成N型源区及P+型接触区,且所述N型源区及P+型接触区位于所述栅极结构的侧边;

8)于器件表面形成介质层,于所述介质层中打开两个源区接触窗口及一体区接触窗口,且基于所述体区接触窗口刻蚀所述绝缘介质形成直至所述P+型衬底的第二沟槽,所述第二沟槽侧壁保留有绝缘介质;

9)于所述源区接触窗口、体区接触窗口及所述第二沟槽内填充电极材料形成两源区电极及一体区电极,并制作金属层使得其中一个源区电极及体区电极相连,完成开关器件的电性引出;

10)于所述P+型衬底的背面制作背镀金属,以将与所述金属层相连的所述源区电极通过所述体区电极以导电的方式引到芯片背面。

2.根据权利要求1所述的用于锂电保护的开关器件的制作方法,其特征在于:步骤3)包括:

步骤3-1),于所述P-型外延层制作掩膜;

步骤3-2),基于掩膜采用离子注入方式于所述P-型外延层中形成N型阱区,使得所述N型阱区与后续制备的体区电极之间被所述P-型外延层隔离。

3.根据权利要求1所述的用于锂电保护的开关器件的制作方法,其特征在于:所述源区电极同时与所述N型源区及P+型接触区接触。

4.根据权利要求1所述的用于锂电保护的开关器件的制作方法,其特征在于:步骤8)中,采用一次刻蚀工艺刻蚀出所述两个源区接触窗口、一体区接触窗口以及第二沟槽。

5.根据权利要求1所述的用于锂电保护的开关器件的制作方法,其特征在于:所述背镀金属的制作包括:

a)采用溅射或蒸镀的方法于所述P+型衬底的背面形成TiN层或Ag层;

b)采用快速热退火的方法对所述TiN层或Ag层进行退火形成与所述P+型衬底的欧姆接触。

6.一种用于锂电保护的开关器件,其特征在于:包括:

P+型衬底;

P-型外延层;形成于所述P+型衬底表面;

第一沟槽,形成于体接触区域;

N型阱区,形成于所述P-型外延层中;

两个P型阱区,相隔排列形成于所述N型阱区中;

两个栅极结构,各栅极结构横跨于N型阱区及P型阱区之间;

N-型漂移区,形成于两个栅极结构之间;

N型源区及P+型接触区,形成于所述P型阱区中,且所述N型源区及P+型接触区位于所述栅极结构的侧边;

介质层,形成于器件表面,所述介质层中打开有两个源区接触窗口及一体区接触窗口,所述体区接触窗口内形成直至所述P+型衬底的第二沟槽,所述第二沟槽与所述第一沟槽之间具有绝缘介质;

电极材料,填充于所述源区接触窗口、体区接触窗口及所述第二沟槽内形成两源区电极及一体区电极,其中一个源区电极及体区电极通过金属层相连,实现开关器件的电性引出;

所述P-型外延层中还形成有STI隔离区,所述STI隔离区位于两个栅极结构之间,且所述N-型漂移区包围于所述STI隔离区;

所述P+型衬底的背面形成有背镀金属,以将与所述金属层相连的所述源区电极通过所述体区电极以导电的方式引到芯片背面。

7.根据权利要求6所述的用于锂电保护的开关器件,其特征在于:所述N型阱区与所述体区电极之间被所述P-型外延层隔离。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海宝芯源功率半导体有限公司,未经上海宝芯源功率半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710038841.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top