[发明专利]一种光照强度调节装置、系统和方法有效
申请号: | 201710042547.1 | 申请日: | 2017-01-20 |
公开(公告)号: | CN106597815B | 公开(公告)日: | 2021-01-22 |
发明(设计)人: | 曹中林;刘庭良;黄炜赟;李挺 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G02F1/163 |
代理公司: | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人: | 赵娟 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光照强度 调节 装置 系统 方法 | ||
1.一种光照强度调节系统,其特征在于,所述光照强度调节系统应用于曝光机,所述光照强度调节系统包括光照强度测量单元,信号转换单元,以及,光照强度调节装置;
其中,所述光照强度测量单元,用于测量每个像素单元的光照强度;
所述信号转换单元,用于将所述每个像素单元的光照强度转换为电压信号;
所述光照强度调节装置,包括多个像素单元以及对应设置的多个调节电路,其中,所述多个像素单元位于所述曝光机的透光区域,所述像素单元包括第一透明电极和电致变色层,每个调节电路分别与每个像素单元的第一透明电极对应连接;
所述调节电路用于依据所述电压信号,控制所述第一透明电极上的电压大小,改变所述电致变色层的透光状态,以精细化地调节相应的像素单元的光照强度。
2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述像素单元还包括透明基板和第二透明电极,其中,所述透明基板、第一透明电极、电致变色层和第二透明电极按照由下至上的顺序构成所述像素单元。
3.根据权利要求1所述的系统,其特征在于,所述调节电路包括栅极、源极和漏极,所述漏极复用所述像素单元的第一透明电极。
4.一种光照强度调节方法,应用于权利要求1至3任一项所述的光照强度调节系统,其特征在于,包括:
通过光照强度测量单元分别测量每个像素单元的光照强度;
通过信号转换单元将所述光照强度转换为电压信号;
通过光照强度调节装置依据所述电压信号,精细化地调节相应的像素单元的光照强度。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述像素单元包括第一透明电极,所述第一透明电极与对应设置的一个调节电路连接,在所述通过信号转换单元将所述光照强度转换为电压信号的步骤后,还包括:
通过信号转换单元将所述电压信号输入所述调节电路。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述像素单元还包括电致变色层,所述通过光照强度调节装置依据所述电压信号,调节相应的像素单元的光照强度的步骤包括:
通过所述调节电路依据所述电压信号,控制所述第一透明电极上的电压大小,改变所述电致变色层的透光状态,以精细化地调节相应的像素单元的光照强度。
7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述通过所述调节电路依据所述电压信号,控制所述第一透明电极上的电压大小的步骤包括:
当所述调节电路接收到的电压信号的大小小于预设阈值时,通过所述调节电路增大相应的像素单元的第一透明电极上的电压值;
当所述调节电路接收到的电压信号的大小大于预设阈值时,通过所述调节电路降低相应的像素单元的第一透明电极上的电压值。
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