[发明专利]Rb2ZnSi3O8化合物、Rb2ZnSi3O8非线性光学晶体及其制法和用途有效

专利信息
申请号: 201710043512.X 申请日: 2017-01-19
公开(公告)号: CN106800297B 公开(公告)日: 2019-03-26
发明(设计)人: 罗军华;赵炳卿;赵三根 申请(专利权)人: 中国科学院福建物质结构研究所
主分类号: C01B33/20 分类号: C01B33/20;G02F1/355;C30B29/34;C30B28/02;C30B9/08
代理公司: 福州市众韬专利代理事务所(普通合伙) 35220 代理人: 方金芝;黄秀婷
地址: 350000 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: rb2znsi3o8 化合物 非线性 光学 晶体 及其 制法 用途
【权利要求书】:

1.Rb2ZnSi3O8的化合物,其特征在于:所述的Rb2ZnSi3O8的化合物的化学式为Rb2ZnSi3O8

2.根据权利要求1所述的Rb2ZnSi3O8化合物的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:

将含Rb化合物、含Zn化合物和SiO2以化学计量比均匀混合后,以不大于100℃/小时的速率升温到600-700℃并预烧结24小时以上,然后降温取出研磨均匀,再以不大于200℃/小时升温到800-900℃烧结72小时以上,中途取出研磨1次以上,即得所述的Rb2ZnSi3O8化合物。

3.根据权利要求2所述的Rb2ZnSi3O8化合物的制备方法,其特征在于:所述含Rb化合物为碳酸铷或硝酸铷,所述含Zn化合物为氧化锌。

4.Rb2ZnSi3O8非线性光学晶体,其特征在于:所述的Rb2ZnSi3O8非线性光学晶体不含对称中心,属于单斜晶系,C2空间群。

5.根据权利要求4所述的Rb2ZnSi3O8非线性光学晶体,其特征在于:晶胞参数为Z=2。

6.根据权利要求4或5所述的Rb2ZnSi3O8非线性光学晶体的制备方法,其特征在于:

将Rb2ZnSi3O8化合物和助熔剂按照摩尔比为1:2-3混合并研磨均匀后放入铂金坩埚,接着将坩埚置于晶体生长炉,缓慢升温至1100℃以上,保温12小时以上,然后缓慢降温得到所述晶体。

7.根据权利要求6所述的Rb2ZnSi3O8非线性光学晶体的制备方法,其特征在于:所述助熔剂为Rb2O和B2O3按照摩尔比为1:1混合而成。

8.根据权利要求4或5所述的Rb2ZnSi3O8非线性光学晶体的用途,其特征在于:所述的Rb2ZnSi3O8非线性光学晶体作为非线性光学器件使用。

9.一种非线性光学器件,其特点在于:包括根据权利要求4或5所述的Rb2ZnSi3O8非线性光学晶体。

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