[发明专利]抗反射涂料、抗反射涂层及晶硅太阳能电池

说明书

本发明公开了一种用于太阳能电池表面的抗反射涂料、抗反射涂层以及包含该反射涂层的晶硅太阳能电池。所述抗反射涂料包括重量百分含量的如下组分：耐候聚合物0.1～80％；改性无机纳米粒子1～90％；溶剂8～95％；其中，所述耐候聚合物折射率为1.3～1.7。本方案所提供的抗反射涂料，涂覆于太阳能电池片的表面，涂层厚度0.1～20um，能够有效的减小辐射到太阳能电池片表面的太阳能光线的反射，提高太阳能电池的短路电流，从而提高太阳能电池的转化效率。

技术领域

本发明涉及太阳能电池抗反射涂层技术领域，尤其涉及一种抗反射涂料、抗反射涂层及晶硅太阳能电池。

背景技术

随着工业和社会的快速发展，能源消耗越来越大，而目前世界各国均以石化燃料作为主要能源，但是，由于石化燃料为不可再生资源，在不断的开发和使用中，将会日益消耗殆尽。

面对石化能源的不断减少，寻求新的可持续能源已经成为各个国家和地区所面临的重大课题。在现有的可持续能源中，太阳能无疑是一种最清洁、最普遍和最有潜力的替代能源。太阳能的利用通常是以太阳能发电装置作为载体，将太阳能转变为电能，从而为人类所用。太阳能发电装置又称为太阳能电池或光伏电池，可以将太阳能直接转换成电能，其发电机理是基于半导体PN结的光生伏特效应。

但是太阳光照射到太阳能电池表面，会发生较大的反射，而使得光能量损失。为了将更可能多的光耦合到太阳能电池中，通常的做法是在电池正面制作抗反射层，减少因反射造成的光损失。这样的抗反射涂层通常由n＝2.08、约75nm厚的SiN_x层构成。SiN_x层通常采用PECVD工艺制作。现有产线工艺条件下，晶硅电池片正面反射率为6％左右，较单晶的3％、黑硅的1％仍有较大降低空间。

发明内容

为进一步降低晶硅太阳能电池片正面反射率，提高效率，本发明实施例提供了一种抗反射涂料。

进一步地，本发明实施例还提供了由该抗反射涂料形成的抗反射涂层。

更进一步地，本发明实施例还提供了包含该抗反射涂料涂覆形成的抗反射涂层的多晶太阳能电池。

为了达到上述发明目的，本发明实施例采用了如下的技术方案：

一种抗反射涂料，包括重量百分含量的如下组分：

耐候聚合物 0.1～80％；

改性无机纳米粒子 1～90％；

溶剂 8～95％；

其中，耐候聚合物折射率为1.3～1.7。

以及，一种由如上所述的抗反射涂料涂覆形成的抗反射涂层。

相应地，一种晶硅太阳能电池，所述晶硅太阳能电池正面上涂覆有抗反射涂层；所述抗反射涂层由如上所述的抗反射涂料涂覆形成。

本发明上述实施例提供的抗反射涂料成本低，喷涂或滚涂均可；用于晶硅太阳能上，能够使得电池效率提升显著，具有规模应用的前景。

本发明上述实施例提供的抗反射涂料形成的抗反射涂层，涂层厚度为0.1～20um，能使晶硅太阳能电池片效率提高0.4％以上。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

本发明实施例提供一种抗反射涂料，包括重量百分含量的如下组分：

耐候聚合物 0.1～80％；

改性无机纳米粒子 1～90％；