[发明专利]一种制备亲疏图案的光刻方法

权利要求书

1.一种制备亲疏图案的光刻方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：首先在基底上涂覆一层带有图案的图案连接层，其次涂覆一层表面涂层，最后由紫外光或太阳光或可见光或红外光进行照射，得到亲疏图案；所述的基底的材料选自玻璃、金属、墙体、纸张、棉织物中的任一种；所述的图案连接层为具有图案的有机硅胶或硅氧烷；所述表面涂层为尺寸为10nm～10μm微纳二氧化钛颗粒或表面修饰有低表面能物质的微纳二氧化钛颗粒；所述的低表面能物质为氟硅烷或硅氧烷。

2.根据权利要求1所述的制备亲疏图案的光刻方法，其特征在于，所述的图案连接层的图案的制备方法为丝网印刷、点胶机或手动绘制。

3.根据权利要求1或2所述的制备亲疏图案的光刻方法，其特征在于，所述的低表面能物质为主链含碳原子数≥4的氟硅烷或硅氧烷。

4.根据权利要求3所述的制备亲疏图案的光刻方法，其特征在于，所述的低表面能物质为十三氟三乙氧基辛基硅烷、三乙氧基九氟己基硅烷。