[发明专利]一种双技术协同制备轴瓦减摩镀层的方法在审
申请号: | 201710044987.0 | 申请日: | 2017-01-20 |
公开(公告)号: | CN106702332A | 公开(公告)日: | 2017-05-24 |
发明(设计)人: | 郭巧琴;李建平;郭永春;杨忠;高培虎;夏峰 | 申请(专利权)人: | 西安工业大学 |
主分类号: | C23C14/32 | 分类号: | C23C14/32;C23C14/16;C23C14/35;C23C14/02;C22C32/00;C22C21/00;F16C33/12;F16C33/14 |
代理公司: | 西安铭泽知识产权代理事务所(普通合伙)61223 | 代理人: | 潘宏伟 |
地址: | 710021 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 技术 协同 制备 轴瓦 镀层 方法 | ||
技术领域
本发明涉及滑动轴承技术领域,更具体的涉及一种双技术协同制备轴瓦减摩镀层的方法。
背景技术
对于高速、重载、高精度、结构上需要剖分的场合,如汽轮机、离心式压缩机、柴油机、大型电机等,需采用滑动轴承,轴瓦是滑动轴承中的重要零件,是最重要的承力部件之一,也是发动机中最易失效的部件。
滑动轴承的主要作用有:1、支持轴及轴上零件,保持轴的旋转精度;2、减少转轴与支承之间的摩擦磨损。轴承中起支承轴颈作用的零件是轴瓦,因此,轴瓦的性能好坏直接影响着发动机的性能。随着汽车工业的发展,人们对发动机的功率和转速指标要求越来越高,因而对轴瓦、衬套等耐磨零件的服役条件进一步恶化,性能要求也越来越苛刻。发动机工作时,轴瓦需承受高达700MPa的负荷,远高于合金衬层和钢背的屈服极限(100-300MPa),易导致轴瓦弹张量消失,并最终导致轴瓦抱轴;在交变应力作用下,轴瓦会出现涂层、合金衬层开裂和剥落,因而也易导致轴瓦咬合失效。特别是在发动机突然启动或瞬时加速时,润滑油膜不能及时形成,曲轴和轴瓦之间处于干摩擦状态,轴瓦和曲轴极易损坏。国外不断从改善润滑条件、优化结构、提高材料性能等方面努力,以提高轴瓦的使用寿命。
传统的轴瓦其结构形式上一般由依次设置的钢背层、轴承合金层、镍栅层以及减摩层组成,其中基底层在钢背层上,镍栅层镀在基底层上,减摩层镀在镍栅层上。减摩层一般采用铅锡铜三元合金。这种轴瓦能在一定程度上满足发动机的基本要求,但是应用在强化的柴油机上,由于减摩层的抗疲劳强度低,不能满足汽车柴油机的发展需要,轴瓦的抗疲劳强度、耐腐蚀性及耐磨性都有待提高。同时,由于轴瓦中含有铅等有害金属元素,轴瓦对环境产生一定的破坏,不具有环保型性能,不符合社会的发展需要。传统的轴瓦减摩层一般是通过电镀的方法沉积而成的。这种电镀在生产的过程中,对环境及操作人员非常有害,而且电镀出来的轴瓦其性能要求有一定的局限性。
发明内容
本发明提供一种双技术协同制备轴瓦减摩镀层的方法,利用电弧离子镀和磁控溅射离子镀技术协同制备轴瓦减摩镀层,实现了大厚度轴瓦镀层的高速沉积,其轴瓦镀层具有致密性好、抗疲劳强度高、耐磨性优良和环保的特点。
具体的,本发明中双技术协同制备轴瓦减摩镀层的方法,包括以下步骤:
步骤1:将轴瓦基体安装到磁控溅射设备内,并在轴瓦基体和靶材之间建立水平正交电磁场;
步骤2:将磁控溅射设备内部进行抽真空,使真空度达到10-3Pa以下的设定值;
步骤3:当磁控溅射设备内部真空度达到设定值后,向水平正交电磁场中通入惰性气体,并转动轴瓦基体进行辉光清洗;
步骤4:辉光清洗后进行弧光清洗,弧光清洗时采用镍靶;
步骤5:对轴瓦基体的内圆面使用电弧离子镀制备镍栅层,制备镍栅层时使用镍靶,利用水平正交电磁场对镍靶进行轰击,镍靶离子被击出后沉积到轴瓦基体的内圆面,形成一层镍栅层;
步骤6:对形成镍栅层的轴瓦基体,同时使用电弧离子镀和磁控溅射离子镀进行处理,在镍栅层上进行复合镀膜,形成轴瓦减摩镀层,其中,电弧离子镀采用的靶材为铝铜合金靶,磁控溅射离子镀采用的靶材为锡靶和碳靶;
步骤7:将形成轴瓦减摩镀层的轴瓦基体随炉冷却至温度低于180℃后,打开磁控溅射设备并取出带有轴瓦减摩镀层的轴瓦基体。
优选的,步骤1中,水平正交电磁场中电场由直流电源提供电能,脉冲偏压电源范围为0-1500V,所述轴瓦基体为铝基轴承合金。
优选的,步骤3中,辉光清洗时,工作压力为3.50Pa,惰性气体流量为170sccm,轴瓦基体脉冲偏压为800V,占空比为20%,清洗时间为5min。
优选的,步骤4中,弧光清洗时,工作压力为2.00Pa,惰性气体流量为100sccm,轴瓦基体脉冲偏压为900V,镍靶电流为50A,清洗时间为4min。
优选的,所述镍靶纯度为99.9%。
优选的,步骤5中,工作压力为2.00Pa,惰性气体流量为100sccm,轴瓦基体偏压为900V,占空比为10%,镍靶电流为50-90A,电弧离子镀镍栅层沉积时间为10min。
优选的,步骤6中,采用纯度为99.9%的铝铜合金靶进行电弧离子镀,铝铜合金靶电流为45-90A,采用纯度均为99.9%的锡靶和碳靶进行磁控溅射离子镀,锡靶电流为0.15-1.0A,碳靶电流为0.8-3.0A,轴瓦基体偏压为300-500V,占空比为50-80%,镀膜时间为30-60min,每隔5min记录一次数据。
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