[发明专利]一种等离子刻蚀设备

权利要求书

1.一种等离子刻蚀设备，包括反应腔室（1），反应腔室内设置相对平行放置的正电极板（2）和负电极板（3），反应腔室左侧设置有气体入口（4），反应腔室右下侧处设置有气体出口（5）；其特征在于：所述负电极板（3）设置于反应腔室（1）的上方，所述负电极板（3）和待 刻蚀的掩膜版（6）相互连接，待 刻蚀的掩膜版（6）位于负电极板（3）的下方，待 刻蚀的掩膜版（6）的版面朝下；所述正电极板（2）设置于反应腔室（1）的下方并与待 刻蚀的掩膜版（6）相对，所述负电极板（3）上设置有气孔（8），真空通过负电极板（3）上的气孔（8）把负电极板（3）和待 刻蚀的掩膜版（6）吸附连接在一起，或者，负电极板（3）和待 刻蚀的掩膜版（6）通过机械连接方式连接在一起。

2.根据权利要求1所述的等离子刻蚀设备，其特征在于：所述正电极板（2）的板面下侧面连接有导线，导线通过反应腔室接地。

3.根据权利要求1或2所述的等离子刻蚀设备，其特征在于：所述负电极板（3）的板面上侧面连接有导线，导线与射频电源（7）连接。